[특허]Moisture management hat

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Moisture management hat 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	A42B-001/00
출원번호	US-0118032 (1993-09-08)
발명자 / 주소	Moretz Herbert L. (Davidson NC) Brier Daniel L. (Key Largo FL)
출원인 / 주소	Intelpro Corporation (Lincolnton NC 02)
인용정보	피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 0

초록 ▼

A moisture management hat is constructed of a shell fabric and includes a moisture management band. The moisture management band is located along an inside perimeter of the hat for residing next to at least the forehead of the wearer during garment wear. The moisture management band includes a first, moisture wicking fabric layer having a skin-side surface and a shell-side surface. The first fabric layer is constructed of hydrophobic fibers for residing nearest the head of the wearer for moving moisture outwardly away from the head. A second, moisture dispersal fabric layer having a skin-side surface and a shell-side surface resides adjacent to the shell-side surface of the first fabric layer. The second fabric layer is constructed of hydrophilic fibers for receiving and dispersing moisture wicked outwardly by the first fabric layer.

대표청구항 ▼

A moisture management hat constructed of a shell fabric, the shell fabric including a moisture evaporation panel located on a front crown portion of said hat, said evaporation panel being constructed of an air permeable, relatively open knit or woven fabric, and said moisture management hat comprising a moisture management band located along an inside perimeter of the hat for residing next to at least the forehead of the wearer during garment wear, said moisture management band comprising: (a) a first, moisture wicking fabric layer having a skin-side surface and a shell-side surface, said first fabric layer constructed of hydrophobic fibers for residing nearest the head of the wearer for moving moisture outwardly away from the head; and (b) a second, moisture dispersal fabric layer having a skin-side surface and a shell-side surface, said second fabric layer residing adjacent to the shell-side surface of said first fabric layer and constructed of hydrophilic fibers for receiving and dispersing moisture wicked outwardly by said first fabric layer.

이 특허를 인용한 특허 (17)

Crye, Caleb Clark; Fehlberg, Eric Owen; Thompson, Gregg M., Ballistic nape protector for ballistic helmet.
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Capparella Anthony, Baseball cap with decorative cover for a snap band.
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Malarky, II, John T., Baseball hat without a visor.
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Aronson, Steven, Comfort headgear with moisture-draining and absorption mechanism.
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Fujino Yukio (Tokyo JPX) Matsuura Yuuichi (Tokyo JPX), Cooling cap element.
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Shin,Suk Won; Kim,Min Jong, Crown for a cap.
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Farbenbloom Ashlie, Hat shaper and sizer.
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Crye, Caleb Clark; Fehlberg, Eric Owen; Thompson, Gregg M., Helmet with ballistic nape protector.
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Hacskaylo Charles A., Jacquard knit patterned wristband and headband and methods of making same.
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Albright David, Knitted brassiere blank having integral seamless elasticated contours defining bra cup borders.
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Albright David, Knitted textile fabric having integral seamless elasticated contours, panty blank formed thereof, and fabricating a pan.
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Nebeker Leonard R. (2464 E. Murray-Holladay Rd. Salt Lake City UT 84117), Liner for hat.
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Petry, Robert W., Moisture-diverting sweatband.
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Chang, Rong Chen, Protective gear.
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Chang, Rong Chen, Protective gear.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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