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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0344600 (1994-11-18) |
우선권정보 | JP-0217237 (1992-07-22); JP-0032351 (1993-02-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 0 |
A method for producing a thin-film solar cell includes successively depositing a lower anti-reflection film having a relatively large etching rate in a prescribed etchant and an upper anti-reflection film having a relatively small etching rate in the prescribed etchant on a photosensitive surface of
A method for producing solar cell, comprising: depositing on a solar cell body an SiN lower anti-reflection film to a first thickness effective as an anti-reflection film for the solar cell body, the SiN lower anti-reflection film having a relatively large etching rate in a prescribed etchant; depos
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