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[미국특허] Process and apparatus for transferring an object and for processing semiconductor wafers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65G-049/05
출원번호 US-0985200 (1992-12-03)
우선권정보 JP-0337341 (1991-12-20)
발명자 / 주소
  • Usami Yasutsugu (Katsuta JPX)
출원인 / 주소
  • Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 33  인용 특허 : 0

초록 ▼

Apparatus for processing semiconductor wafers includes a load lock chamber with a first gate valve and a second gate valve so as to load and unload cassettes through the first gate valve, and to convey the wafers from the load lock chamber to a plurality of processing chambers through respective sec

대표청구항 ▼

A method of processing semi-conductor wafers in a processing system which includes a load lock chamber with a first gate valve for accommodating transfer of cassettes containing multiple wafers to and from the load lock chamber and a plurality of vacuum processing chambers connected by respective se

이 특허를 인용한 특허 (33) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Iljima, Kiyohito; Kaise, Seiichi; Takahashi, Keiko; Obi, Akira, Cluster tool and method for controlling transport.
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  2. Iijima,Kiyohito; Kaise,Seiichi; Takahashi,Keiko; Obi,Akira, Cluster tool and transfer control method.
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  3. Blake Julian G. ; Sferlazzo Piero ; Rose Peter H. ; Brailove Adam A., Control mechanisms for dosimetry control in ion implantation systems.
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  4. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Oen Joshua T. (Newark CA), Direct loadlock interface.
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  5. Blake Julian G., Ion beam shield for implantation systems.
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  6. Rose Peter H. ; Blake Julian G. ; Brailove Adam A. ; Yang Zhongmin ; McRay Richard F. ; Hughey Barbara J., Ion implantation system for implanting workpieces.
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  7. Rose Peter H. ; Blake Julian G. ; Brailove Adam A. ; Yang Zhongmin ; McRay Richard F. ; Hughey Barbara J., Ion implantation system for implanting workpieces.
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  8. Blake Julian G. ; Purser Kenneth H. ; Brailove Adam A. ; Rose Peter H. ; Hughey Barbara J., Large area uniform ion beam formation.
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  9. Atsunori Kimura JP; Yoichi Ono JP; Hayato Minamishin JP; Yuji Tanaka JP; Seiichi Ohno JP; Hidekazu Hata JP; Hiroyuki Ueda JP; Isamu Esaki JP; Atsushi Uchida JP, Paper sheet manipulating apparatus and paper sheet transaction apparatus.
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  10. King Michael C. ; Blake Julian G. ; Rose Peter H., Plasma chamber for controlling ion dosage in ion implantation.
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  11. Hanson,Kyle; Dix,Mark; Zila,Vlad; Woodruff,Daniel J., Semiconductor processing apparatus having lift and tilt mechanism.
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  12. van Kessel Theodore G. ; Whitaker Chris R., Semiconductor wafer handling system.
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  13. Ma, Yin-Cheng, Stationary and pivotable trays for semiconductor wafer transfer.
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  14. Mitsuyoshi, Ichiro, Substrate processing apparatus.
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  15. Hayashi, Akinari, Substrate processing apparatus and substrate processing method.
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  16. Kaji, Tetsunori; Uchimaki, Yoichi; Egawa, Yuko, System for producing wafers.
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  17. Adachi Hideki,JPX ; Inada Tatsuhiko,JPX, Transfer apparatus for and method of transferring substrate.
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  18. Shigekazu Kato JP; Kouji Nishihata JP; Tsunehiko Tsubone JP; Atsushi Itou JP, Transferring device for a vacuum processing apparatus and operating method therefor.
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  19. Tepman Avi ; Lowrance Robert B., Two-piece slit valve insert for vacuum processing system.
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  20. van Kessel Theodore G. ; Whitaker Chris R., Unidirectional gate between interconnecting fluid transport regions.
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  21. Fukasawa Yoshio (Kofu JPX) Hosoda Shozo (Yamanashi-ken JPX) Nakagome Tatsuya (Yamanashi-ken JPX) Tozawa Takashi (Yamanashi-ken JPX) Suzuki Koji (Yamanashi-ken JPX) Ishihara Yasumasa (Kofu JPX) Aoyagi, Vacuum process apparatus and vacuum processing method.
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  22. Kato Shigekazu,JPX ; Nishihata Kouji,JPX ; Tsubone Tsunehiko,JPX ; Itou Atsushi,JPX, Vacuum processing apparatus and operating method therefor.
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  23. Minoru Soraoka JP; Ken Yoshioka JP; Yoshinao Kawasaki JP, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  24. Soraoka Minoru,JPX ; Yoshioka Ken,JPX ; Kawasaki Yoshinao,JPX, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  25. Soraoka Minoru,JPX ; Yoshioka Ken,JPX ; Kawasaki Yoshinao,JPX, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  26. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  27. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  28. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  29. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  30. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  31. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  32. Soraoka,Minoru; Yoshioka,Ken; Kawasaki,Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  33. Soraoka,Minoru; Yoshioka,Ken; Kawasaki,Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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