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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0164009 (1993-12-08) |
우선권정보 | DE-4307382 (1993-03-09) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 0 |
In a mask (7) for covering the outer marginal area of a disk-shaped substrate surface during a coating process, for example a vacuum sputtering or vapor depositing process, the mask (7) is made of an elastic material in the form of a planar plate with an essentially circular opening. To center and l
A mask for processing a disk shaped substrate having a thickness, an annular marginal portion defining an outside diameter of said substrate, and a central circular hole defining an inside diameter of said substrate, said mask comprising a flat plate having an essentially circular opening defined by
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