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Mask for covering the margin of a disk-shaped substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
  • C23C-016/04
출원번호 US-0164009 (1993-12-08)
우선권정보 DE-4307382 (1993-03-09)
발명자 / 주소
  • Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX)
출원인 / 주소
  • Leybold Aktiengesellschaft (Hanau DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 0

초록

In a mask (7) for covering the outer marginal area of a disk-shaped substrate surface during a coating process, for example a vacuum sputtering or vapor depositing process, the mask (7) is made of an elastic material in the form of a planar plate with an essentially circular opening. To center and l

대표청구항

A mask for processing a disk shaped substrate having a thickness, an annular marginal portion defining an outside diameter of said substrate, and a central circular hole defining an inside diameter of said substrate, said mask comprising a flat plate having an essentially circular opening defined by

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Yang Yu-Chen,TWX ; Huang Chang-Chi,TWX ; Yen Wen-Ping,TWX, Detachable sponge device for spin-coating machines.
  2. Jackman,Rebecca J.; Duffy,David C.; Whitesides,George M.; Vaeth,Kathleen; Jensen,Klavs F., Elastomeric mask and use in fabrication of devices.
  3. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  4. Ostuni, Emanuele; Kane, Ravi; Whitesides, George M.; Jackman, Rebecca J.; Duffy, David C., Method for cell patterning.
  5. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  6. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
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