[특허]Method of pattern formation utilizing radiation-sensitive resin composition containing monooxymonocarboxylic acid ester

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[미국특허] Method of pattern formation utilizing radiation-sensitive resin composition containing monooxymonocarboxylic acid ester 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-007/38
출원번호	US-0357400 (1994-12-16)
우선권정보	JP-0173396 (1985-08-07)
발명자 / 주소	Hosaka Yoshihiro (Yokohama JPX) Nozue Ikuo (Yokkaichi JPX) Takatori Masashige (Yokohama JPX) Harita Yoshiyuki (Kawasaki JPX)
출원인 / 주소	Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 0

초록 ▼

A radiation-sensitive resin composition comprising a solution of an alkali-soluble resin and a radiation-sensitive compound in a solvent comprising a monooxymonocarboxylic acid ester. This composition has a high storage stability (i.e., a very small amount of fine particles are formed during storage

대표청구항 ▼

A method for making a pattern which comprises: (a) coating a radiation-sensitive single phase resin composition on a wafer, (b) prebaking the coated wafer, (c) applying radiations through a mask to the prebaked coated wafer, and then (d) subjecting the coating film of the resin composition to development, wherein said radiation-sensitive single phase resin composition comprises a solution of 100 parts by weight of an alkali-soluble resin and 5 to 100 parts by weight of a 1,2-quinonediazide compound as a radiation-sensitive compound in a solvent comprising a monooxymonocarboxylic acid ester having formula (I): R1－O－R2－COOR3(I) wherein R1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms; R2 is a methylene group, an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms or an alkylidene group having 2 to 4 carbon atoms; and R3 is an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, the amount of the solvent comprising said monooxymonocarboxylic acid ester being 40 to 90% by weight of the composition, and said compound of formula (I) being present in such an amount that a radiation-sensitive resist can be prepared from said composition.

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Wolfinbarger ; Jr. Lloyd, Composition for cleaning bones.
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Miyaji, Masaaki; Nagai, Tomoki; Yada, Yuji; Numata, Jun; Nishimura, Yukio; Yamamoto, Masafumi; Ishii, Hiroyuki; Kajita, Toru; Shimokawa, Tsutomu, Radiation-sensitive resin composition.
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Miyaji,Masaaki; Nagai,Tomoki; Yada,Yuji; Numata,Jun; Nishimura,Yukio; Yamamoto,Masafumi; Ishii,Hiroyuki; Kajita,Toru; Shimokawa,Tsutomu, Radiation-sensitive resin composition.
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Nishimura, Yukio; Yamahara, Noboru; Yamamoto, Masafumi; Kajita, Toru; Shimokawa, Tsutomu; Ito, Hiroshi, Radiation-sensitive resin composition.
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Shima,Motoyuki; Ishii,Hiroyuki; Yamamoto,Masafumi; Matsuda,Daichi; Nakamura,Atsushi, Radiation-sensitive resin composition.
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Suzuki,Aki; Murata,Makoto; Hara,Hiromichi; Kobayashi,Eiichi, Radiation-sensitive resin composition.
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Yokoyama,Kenichi; Miyajima,Fumihisa; Nagai,Tomoki; Yoneda,Eiji, Radiation-sensitive resin composition.
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Hosaka Yoshihiro,JPX ; Nozue Ikuo,JPX ; Takatori Masashige,JPX ; Harita Yoshiyuki,JPX, Radiation-sensitive resin composition utilizing monooxymonocarboxylic acid ester solvent.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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