[특허]Method and apparatus for exposure of substrates

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H04N-001/21
출원번호	US-0027507 (1993-03-05)
우선권정보	EP-0103778 (1992-03-05)
발명자 / 주소	Sandstrom Torbjrn E. (Mlnlycke SEX)
출원인 / 주소	Micronic Laser Systems AB (Taby SEX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 35 인용 특허 : 0

초록 ▼

A method for exposure of patterns described in one or several databases containing geometrical descriptions of said patterns by means of writing with a focussed laser light onto substrates which are photosensitive at the wavelength of the laser light, comprising the steps of moving the substrate during the writing procedure in a first direction (y) relative to a fixed frame, continuously moving the optics focussing laser light on said photosensitive surface in a second direction (x) essentially perpendicular to the first direction, spreading the focussed laser light on the photosensitive surface in the first direction (y) for forming an extended focus area, and independently controlling the focussed laser light hitting more than 100 position increments spaced in the first direction (y) across the extended focus area.

대표청구항 ▼

A method for exposure of very precise patterns by focused laser light onto a large substrate which is photosensitive at a wavelength of the laser light, comprising the steps of: providing a database describing geometrical elements in a pattern, providing at least one laser light beam from at least one laser mounted on a fixed frame, spreading and focusing said at least one laser beam into at least 100 foci, distributed in a first direction (y) on a surface of a substrate, by means of a beam-spreading optical system and a focusing lens, mounting said beam-spreading optical system and said focusing lens on a movable carriage, modulating optical power reaching each focus in accordance with data in at least one database, moving the substrate stepwise in the first direction (y) relative to said fixed frame, continuously moving the carriage with the beam-spreading optical system and focusing lens relative to the fixed frame in a second direction (x) substantially perpendicular to said first direction (y), and collimating the laser beam propagated from the laser mounted on the fixed frame to the moving carriage essentially parallel to the second direction (x).

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