$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Surface cleaning with argon 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/00
출원번호 US-0185184 (1994-01-21)
우선권정보 JP-0011519 (1993-01-27); JP-0031950 (1993-02-22); JP-0071777 (1993-03-30); JP-0082234 (1993-04-08); JP-0189541 (1993-07-30)
발명자 / 주소
  • Tamai Tadamoto (Tokyo JPX) Ikeya Yoichiro (Houya JPX)
출원인 / 주소
  • Sumitomo Heavy Industries, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 0

초록 ▼

Argon gas and nitrogen gas are mixed together and cooled by a cooler to a liquefying temperature of argon gas specific to its pressure, to form argon fine droplets in the mixed gas. The gas is then jetted out of nozzles and blown into a vacuum chamber to adiabatically lower the temperature further a

대표청구항 ▼

In a surface cleaning method wherein argon is sprayed through a nozzle device onto the surface of an object to be cleaned, the improvement comprising: an argon fine droplets forming step for forming argon liquid droplets upstream of the nozzle device comprising a cooling step to cool a gas containin

이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Fishkin Boris ; Brown Kyle A., Aerosol substrate cleaner.
    상세보기
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
    상세보기
  3. Furusawa Masami,JPX ; Harano Riichiro,JPX, Apparatus and method for cleaning substrate.
    상세보기
  4. Deok-Joo Yoon KR; Myeon-Chang Sung KR; Kwang-Ho Jeong KR, Apparatus and method for dry cleaning of substrates using clusters.
    상세보기
  5. Watanabe, Naoki; Watanabe, Nobuyoshi; Tani, Kazunori; Furukawa, Shinji; Sasaki, Hiromi; Watabe, Osamu, Apparatus for manufacturing magnetic recording disk, and in-line type substrate processing apparatus.
    상세보기
  6. Inai, Kensuke; Dobashi, Kazuya, Cleaning method, processing apparatus, and storage medium.
    상세보기
  7. Ballantine Arne W. ; Warren Ronald A., Cryogenic/phase change cooling for rapid thermal process systems.
    상세보기
  8. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
    상세보기
  9. Han, Yong-Pil; Sawin, Herbert H., HF vapor phase wafer cleaning and oxide etching.
    상세보기
  10. Sawada Hideki,JPX, Image/audio reproducing apparatus.
    상세보기
  11. Rien Willi,DEX, Method and device for the mechanical removal of a layer of alien material from a basic material.
    상세보기
  12. Hiraishi, Masafumi; Kondo, Masataka; Yamagishi, Hideo; Hayashi, Katsuhiko; Okatsu, Toshihide, Method for cleaning photovoltaic module and cleaning apparatus.
    상세보기
  13. Grosenbacher, Tim, Method for sweeping contaminants from a process chamber.
    상세보기
  14. Derie Michel,FRX ; Severac Didier,FRX, Method of cleaning of a polymer containing aluminum on a silicon wafer.
    상세보기
  15. Benson, Peter A., Non-chemical, non-optical edge bead removal process.
    상세보기
  16. Benson, Peter A., Non-chemical, non-optical edge bead removal process.
    상세보기
  17. Yoon, Cheol-Nam, Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface.
    상세보기
  18. Yoon,Cheol Nam, Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface.
    상세보기
  19. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
    상세보기
  20. Matsuno, Kousaku; Iga, Masao; Ueda, Takeji; Kanayasu, Jun; Shikami, Satoshi, Substrate cleaning apparatus.
    상세보기
  21. Aoki Hidemitsu,JPX, Substrate cleaning method and apparatus.
    상세보기
  22. Matsui, Hidefumi; Moriya, Tsuyoshi; Narushima, Masaki, Substrate cleaning method and substrate cleaning device.
    상세보기
  23. Matsuo, Jiro; Seki, Toshio; Aoki, Takaaki; Dobashi, Kazuya; Inai, Kensuke; Saito, Misako, Substrate cleaning method, substrate cleaning device, and vacuum processing device.
    상세보기
  24. Butterbaugh, Jeffery W.; Mbanaso, Chimaobi W.; Becker, David Scott, Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures.
    상세보기
  25. Butterbaugh, Jeffery W.; Mbanaso, Chimaobi W.; Becker, David Scott, Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures.
    상세보기
  26. Mbanaso, Chimaobi W.; Butterbaugh, Jeffery W.; Becker, David Scott, Systems and methods for treating substrates with cryogenic fluid mixtures.
    상세보기
  27. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
    상세보기

관련 콘텐츠

섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로