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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0261278 (1994-06-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 33 인용 특허 : 0 |
This invention is directed to a process for providing a hard, transparent, hydrophobic film of hydrogenated boron nitride on a substrate and the film so made. The process comprises depositing the film condensation from a flux of ions generated from gaseous precursors comprising borazine, the kinetic
A process for providing a hard, transparent film comprising amorphous hydrogenated boron-nitride on a substrate, said process comprising depositing said film on said substrate at a temperature of less than about 100°C. by plasma-enhanced chemical vapor deposition from gaseous precursor materials com
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