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특허 상세정보

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Two-wavelength antireflection film

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G02B-005/08    G02B-005/28    G02B-003/00   
미국특허분류(USC) 359/359 ; 359/589 ; 359/653 ; 359/722
출원번호 US-0156694 (1993-11-24)
우선권정보 JP-0337945 (1992-11-25); JP-0156252 (1993-06-02)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 26  인용 특허 : 0
초록
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A two-wavelength antireflection film includes a substrate and an alternate film. The alternate film consists of alternately laminated layers of a low refractive index material and an intermediate refractive index material, in order from a light entrance side to the surface of the substrate. The low refractive index material is at least a member selected from the group consisting of MgF2, SiO2, BaF2, LiF, SrF2, AlF3, NaF, a mixture thereof and a compound thereof. The intermediate refractive index material is at least a member selected from the group consi...

대표
청구항
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A two-wavelength antireflection film comprising: a substrate; and an alternate film consisting of alternately laminated layers of a low refractive index material and an intermediate refractive index material, in an order from a light entrance side to a surface of said substrate; wherein said low refractive index material and said intermediate refractive index material are alternately laminated in four layers with optical thicknesses, having a design wavelength l0, in an order from a light entrance side, of 0.2l0 to 0.4l0 for the 1st layer, 0.05l0 to 0.2l...

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 26

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