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Apparatus for removing particulate matter 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/02
출원번호 US-0300415 (1994-09-02)
발명자 / 주소
  • Williford
  • Jr. John F. (7155 N.E. 126th St. Kirkland WA 98034)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 0

초록 ▼

A method for controlling the effective velocity of a spray of cleaning material in order to remove particulate matter and other contamination from a surface of a workpiece. The surface under treatment is moved relative to the position of a sprayhead in order to increase or reduce the velocity at whi

대표청구항 ▼

Apparatus for removing contaminants from a workpiece, comprising: a supply of cleaning material; a sprayhead for directing a stream of the cleaning material towards the workpiece; a support plate on which the workpiece is mounted, the support plate being disposed in front of the stream of the cleani

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Fishkin Boris ; Brown Kyle A., Aerosol substrate cleaner.
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  2. Kemper,Franz; M철ckel,Jens, Apparatus and method for processing wafers.
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  3. Richard Abraham, Apparatus and method for spinning a work piece.
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  4. Therkildsen,Charles G., Apparatus for improving corrosion resistance of chrome plated material.
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  5. Ben Kim, Cleaning with liquified gas and megasonics.
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  6. Gaydoul Jurgen,SEX ; Gieseler Wolfgang,DEX, Device for de-scaling semi-finished products.
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  7. Burke, James P.; Campbell, Alan B.; Ehnes, Dale L.; Wertz, Daniel S., Fly-cutting system and method, and related tooling and articles.
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  8. Burke, James P.; Campbell, Alan B.; Ehnes, Dale L.; Wertz, Daniel S., Fly-cutting system and method, and related tooling and articles.
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  9. Burke, James P.; Campbell, Alan B.; Ehnes, Dale L.; Wertz, Daniel S., Fly-cutting system and method, and related tooling articles.
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  10. Quarantello, Justin M., Method and apparatus for cleaning and drying a workpiece.
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  11. Therkildsen, Charles G., Method and apparatus for improving corrosion resistance of chrome plated material.
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  12. Yamasaka Miyako,JPX, Method for washing and drying substrates.
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  13. Shinbara Kaoru,JPX ; Eitoku Atsuro,JPX ; Miyake Katsuyuki,JPX, Method of and apparatus for processing substrate.
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  14. Jackson, David P., Method of forming cryogenic fluid composition.
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  15. Kimura Norio,JPX ; Kikuta Ritsuo,JPX ; Ishii You,JPX ; Hirose Masayoshi,JPX, Polishing apparatus.
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  16. Takano, Masamune, Processing apparatus, nozzle, and dicing apparatus.
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  17. Goodman, Daniel; Keigler, Arthur; Guarnaccia, David G., Substrate holder.
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  18. Goodman, Daniel; Keigler, Arthur; Fisher, Freeman, Substrate loader and unloader.
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  19. Okuda,Seiichiro; Sugimoto,Hiroaki; Kuroda,Takuya; Sato,Masanobu; Hirae,Sadao; Yasuda,Shuichi; Morinishi,Kenya; Imai,Masayoshi, Substrate processing apparatus.
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  20. Kim, Se-Ho, System for forming aerosols and cooling device incorporated therein.
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  21. Kim,Se Ho, System for forming aerosols and cooling device incorporated therein.
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