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특허 상세정보

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Polishing apparatus

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B24B-021/00   
미국특허분류(USC) 451/296 ; 451/303 ; 451/310 ; 451/388
출원번호 US-0499286 (1995-07-06)
우선권정보 JP-0203008 (1994-08-05)
발명자 / 주소
  • Morioka Izuru (Tokyo JPX) Kuwano Kenji (Tokyo JPX)
출원인 / 주소
  • Nihon Micro Coating Co., Ltd. (JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 0
초록
▼

A polishing apparatus, for polishing/cleaning a target object surface by using a polishing tape, has a spindle rotatably placed inside an opening formed in a base plate, a motor for rotating the spindle, a compression roller rotatably supported between a pair of side walls attached to the spindle, supply and take-up rollers supported rotatably by the side walls for advancing the polishing tape, and a motor for the take-up roller. The polishing tape is supplied from the supply roller and taken up by the take-up roller through the compression roller, while...

대표
청구항
▼

A polishing apparatus for advancing and rotating a polishing tape, said polishing machine comprising: a base plate having an opening therethrough; a spindle rotatably contained in said opening through said base plate; a first rotating means attached to said base plate for rotating said spindle; a pair of side walls attached to said spindle; a compression roller for pressing a polishing tape against a target object, said compression roller being rotatably attached between said side walls, said compression roller having a rotary shaft which is perpendicula...

이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Hanson Eric J. ; Kooyer Richard L., Apparatus and method for treating a cathode material provided on a thin-film substrate.
  2. Hanson, Eric J.; Kooyer, Richard L., Apparatus and method for treating a cathode material provided on a thin-film substrate.
  3. Rouillard Jean,CAX ; Comte Christophe,CAX ; Daigle Dominik,CAX, Bypass apparatus and method for series connected energy storage devices.
  4. Case James R. ; Kiballa Gerald A. ; Shuman Michael A., Chemical planar head dampening system.
  5. Case, James R.; Kiballa, Gerald A.; Shuman, Michael A., Chemical planar head dampening system.
  6. Rouillard Jean,CAX ; Comte Christophe,CAX ; Hagen Ronald A. ; Knudson Orlin B. ; Morin Andre,CAX ; Ross Guy,CAX, Equalizer system and method for series connected energy storing devices.
  7. Hagen Ronald A. ; Chen Kenneth W. ; Comte Christophe,CAX ; Knudson Orlin B. ; Rouillard Jean,CAX, Fault-tolerant battery system employing intra-battery network architecture.
  8. Hagen Ronald A. ; Comte Christophe,CAX ; Knudson Orlin B. ; Rosenthal Brian ; Rouillard Jean,CAX, In-situ fault detection apparatus and method for an encased energy storing device.
  9. Gauthier Michel,CAX ; Domroese Michael K. ; Hoffman Joseph A. ; Lindeman David D. ; Noel Joseph-Robert-Gaetan,CAX ; Radewald Vern E. ; Rouillard Jean,CAX ; Rouillard Roger,CAX ; Shiota Toshimi,CAX ; , In-situ short circuit protection system and method for high-energy electrochemical cells.
  10. Gauthier, Michel; Domroese, Michael K.; Hoffman, Joseph A.; Lindeman, David D.; Noel, Joseph-Robert-Gaetan; Radewald, Vern E.; Rouillard, Jean; Rouillard, Roger; Shiota, Toshimi; Trice, Jennifer L., In-situ short-circuit protection system and method for high-energy electrochemical cells.
  11. Kim Inki ; Xu Jim, Method and apparatus for improving die planarity and global uniformity of semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing context.
  12. Inbe, Takashi, Method and apparatus for polishing a semiconductor substrate wafer.
  13. Rouillard, Roger; Domroese, Michael K.; Hoffman, Joseph A.; Lindeman, David D.; Noel, Joseph-Robert-Gaetan; Radewald, Vern E.; Ranger, Michel; Sudano, Anthony; Trice, Jennifer L.; Turgeon, Thomas A., Method for transferring thermal energy and electrical current in thin-film electrochemical cells.
  14. Ng, Kan-Yin; Teasley, Brent, Method for wafer processing.
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  16. Maeda, Kazuaki; Takahashi, Tamami; Seki, Masaya; Kusa, Hiroaki, Polishing apparatus.
  17. Maeda, Kazuaki; Takahashi, Tamami; Seki, Masaya; Kusa, Hiroaki, Polishing apparatus.
  18. Maeda, Kazuaki; Takahashi, Tamami; Seki, Masaya; Kusa, Hiroaki, Polishing apparatus.
  19. Morioka Izuru,JPX ; Yamazaki Toru,JPX, Polishing apparatus which causes a polishing tape to advance and rotate.
  20. Rouillard Roger,CAX ; Domroese Michael K. ; Hoffman Joseph A. ; Lindeman David D. ; Noel Joseph-Robert-Gaetan,CAX ; Radewald Vern E. ; Ranger Michel,CAX ; Sudano Anthony,CAX ; Trice Jennifer L. ; Tur, Rechargeable thin-film electrochemical generator.
  21. Pant Anil K. ; Breivogel Joseph R. ; Young Douglas W. ; Jairath Rahul ; Engdahl Erik H., Sensors for a linear polisher.
  22. Rouillard Jean,CAX ; Comte Christophe,CAX ; Daigle Dominik,CAX ; Hagen Ronald A. ; Knudson Orlin B. ; Morin Andre,CAX ; Ranger Michel,CAX ; Ross Guy,CAX ; Rouillard Roger,CAX ; St-Germain Philippe,CA, Solid-state energy storage module employing integrated interconnect board.
  23. Rouillard, Jean; Comte, Christophe; Daigle, Dominik; Hagen, Ronald A.; Knudson, Orlin B.; Morin, André; Ranger, Michel; Ross, Guy; Rouillard, Roger; St-Germain, Philippe; Sudano, Anthony; Turgeo, Solid-state energy storage module employing integrated interconnect board.
  24. Rouillard, Jean; Comte, Christophe; Daigle, Dominik; Hagen, Ronald A.; Knudson, Orlin B.; Morin, Andre; Ranger, Michel; Ross, Guy; Rouillard, Roger; St-Germain, Philippe; Sudano, Anthony; Turgeon, Th, Solid-state energy storage module employing integrated interconnect board.
  25. Lund Douglas E., System and method of automatically polishing semiconductor wafers.
  26. Hoffman Joseph A. ; Domroese Michael K. ; Lindeman David D. ; Radewald Vern E. ; Rouillard Roger,CAX ; Trice Jennifer L., Thermal conductor for high-energy electrochemical cells.
  27. Kashiwaya, Makoto; Nakada, Junji, Thermal head lapping apparatus.
  28. Rouillard Roger,CAX ; Domroese Michael K. ; Gauthier Michel,CAX ; Hoffman Joseph A. ; Lindeman David D. ; Noel Joseph-Robert-Gaetan,CAX ; Radewald Vern E. ; Ranger Michel,CAX ; Rouillard Jean,CAX ; S, Thermal management system and method for a solid-state energy storing device.

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