$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[미국특허] High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-019/08
출원번호 US-0319570 (1994-10-07)
우선권정보 JP-0277729 (1993-10-08); JP-0253001 (1994-09-21); JP-0253004 (1994-09-21)
발명자 / 주소
  • Kamo Kenji (Tsukuba JPX) Ono Kouichi (Tsuchiura JPX) Tsukuma Koji (Tsuchiura JPX) Nagata Hiroya (Tsuchiura JPX) Abe Emiko (Yamagata JPX) Kikuchi Yoshikazu (Sagae JPX) Funakoshi Yushiharu (Yamagata JP
출원인 / 주소
  • Tosoh Corporation (Shinnanyo JPX 03) Nippon Silica Glass Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 2

초록

The high-purity, opaque quartz glass containing 3×106-9×106 of closed cells having an average size of 20-40 m3, a ratio of closed cells having sizes of 100 mlm

대표청구항

A high-purity, white opaque quartz glass containing 3×106-9×106 of closed cells having an average size of 20-40 m1 cm3, a ratio of closed cells having sizes of 100 m1% or less, thereby showing 5% or less of linear transmittance for near infrared rays (l900 nm) at a thickness of 1 mm.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Che Tessie M. (Westfield NJ) Carney Raymond V. (Millington NJ) Dotson Duane L. (Parsippany NJ), Porous glass monoliths.
  2. Loxley ; Ted A. ; Barber ; Walter G. ; Combs ; Walter W. ; Webb ; John M ., Vacuum process for avoiding devitrification damage to transparent slip-cast silica crucibles.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Kamiaka Hideto,JPX ; Kishi Yukio,JPX, Ceramic substrate and producing process thereof, and a suction carrier for wafers using a ceramic wafer-chucking substr.
  2. Goncharov, Anatoly Alexandrovich; Kalashnikov, Yury Dmitrievich, Chemical vapor deposition reactor having ceramic lining for production of polysilicon.
  3. Kodas, Toivo T.; Hampden-Smith, Mark J.; Powell, Quint H.; Brewster, James H.; Skamser, Daniel J.; Kunze, Klaus; Atanassova, Paolina; Napolitano, Paul, Dental glass powders comprising spherical glass particles of specific particle size distribution.
  4. Ahn, Kipyung; Xu, Guangjun; Panchula, Martin; Conzone, Samuel; Rong, Tianjun; Zuyev, Konstantin S.; Zhou, Yen, Fused quartz tubing for pharmaceutical packaging.
  5. Ahn, Kipyung; Xu, Guangjun; Panchula, Martin; Conzone, Samuel; Rong, Tianjun; Zuyev, Konstantin S.; Zhou, Yen, Fused quartz tubing for pharmaceutical packaging.
  6. Kodas, Toivo T.; Hampden Smith, Mark J.; Caruso, James; Powell, Quint H.; Ludviksson, Audunn, Glass powders, methods for producing glass powders and devices fabricated from same.
  7. Kodas, Toivo T.; Hampden-Smith, Mark J.; Caruso, James; Powell, Quint H.; Ludviksson, Audunn, Glass powders, methods for producing glass powders and devices fabricated from same.
  8. Sato Tatsuhiro,JPX ; Fujinoki Akira,JPX ; Inaki Kyoichi,JPX ; Yoshida Nobumasa,JPX ; Yokota Tohru,JPX, High purity opaque silica glass.
  9. Donelon, Matthew J.; Pitzen, Arno, Method for forming opaque quartz glass components.
  10. Bernas,James J.; Bowden,Bradley F.; Hrdina,Kenneth E., Method for making extreme ultraviolet lithography structures.
  11. Toivo T. Kodas ; Mark J. Hampden-Smith ; James Caruso ; Quint H. Powell ; Audunn Ludviksson, Methods for producing glass powders.
  12. Nagata Hiroya,JPX ; Tsukuma Koji,JPX ; Kudo Masayuki,JPX, Opaque quartz glass and process for production thereof.
  13. Hiroya Nagata JP; Masayuki Kudo JP; Koji Tsukuma JP; Yoshikazu Kikuchi JP; Tomoyuki Akiyama JP, Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same.
  14. Nagata Hiroya,JPX ; Kudo Masayuki,JPX ; Tsukuma Koji,JPX, Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same.
  15. Sato Tatsuhiro,JPX ; Fujinoki Akira,JPX ; Inaki Kyoichi,JPX ; Yoshida Nobumasa,JPX ; Yokota Tohru,JPX, Process for producing opaque silica glass.
  16. Moritz Stephan,DEX ; Englisch Wolfgang,DEX, Process for producing shaped bodies of silicon dioxide.

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로