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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0431499 (1995-04-28) |
우선권정보 | DE-4414968 (1994-04-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 68 인용 특허 : 1 |
A microsystem on a semiconductor substrate includes an integrated circuit having an insulating layer, a contact in the insulating layer, a lower-lying circuit element, and a conductive layer being disposed above the insulating layer and being connected through the contact to the lower-lying circuit
A production process for a microsystem including an integrated circuit having an insulating layer and a conductive layer on the insulating layer; and a micromechanical component having a fixed micromechanical structure and a movable micromechanical structure, which comprises: structuring the conduct
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