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Method for producing electroless polyalloys 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/52
출원번호 US-0607143 (1996-02-26)
발명자 / 주소
  • Mallory
  • Jr. Glenn O. (c/o Electroless Technologies 3860 Cloverdale Los Angeles CA 90008)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 0

초록

Method for producing electroless nickel or cobalt polymetallic polyalloys having high hardness as plated and containing phosphorus, a primary metal selected from the group consisting of nickel and cobalt and at least one secondary metal selected from the group consisting of copper, molybdenum, tin,

대표청구항

A method for producing an electroless polyalloy deposit containing phosphorus, a primary metal selected from the group consisting of nickel and cobalt and at least one secondary metal selected from the group consisting of copper, molybdenum, tin, and tungsten, the improvement of which achieves a har

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Benton,William J.; Magri,Neal F., Alkali metal tungstate compositions and uses thereof.
  2. Man, Hau-chung; Ng, Wing-yan; Yeung, Chi-hung; Lee, Chi-yung; Siu, Cho-lung; Tsui, Rick Y. C.; Yeung, Kinny L. K., Cobalt-molybdenum-phosphorus alloy diffusion barrier coatings.
  3. Man, Hau-chung; Ng, Wing-yan; Yeung, Chi-hung; Lee, Chi-yung; Siu, Cho-lung; Tsui, Rick Y. C.; Yeung, Kinny L. K., Cobalt-tungsten-phosphorus alloy diffusion barrier coatings, methods for their preparation, and their use in plated articles.
  4. Wirth, Alexandra, Compositions for the currentless deposition of ternary materials for use in the semiconductor industry.
  5. Wirth, Alexandra, Compositions for the currentless deposition of ternary materials for use in the semiconductor industry.
  6. Weidman, Timothy W.; Wijekoon, Kapila P.; Zhu, Zhize; Gelatos, Avgerinos V. (Jerry); Khandelwal, Amit; Shanmugasundram, Arulkumar; Yang, Michael X.; Mei, Fang; Moghadam, Farhad K., Contact metallization scheme using a barrier layer over a silicide layer.
  7. Vaskelis, Algirdas; Jagminiene, Aldona; Stankeviciene, Ina; Norkus, Eugenijus, Electroless deposition of cobalt alloys.
  8. Vaskelis, Algirdas; Jagminiene, Aldona; Stankeviciene, Ina; Norkus, Eugenijus, Electroless deposition of cobalt alloys.
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  10. Stewart, Michael P.; Weidman, Timothy W.; Shanmugasundram, Arulkumar; Eaglesham, David J., Electroless deposition process on a silicon contact.
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  16. Edelstein, Daniel C.; Kang, Sung Kwon; McGlashan-Powell, Maurice; O'Sullivan, Eugene J.; Walker, George F., Method to selectively cap interconnects with indium or tin bronzes and/or oxides thereof and the interconnect so capped.
  17. Edelstein,Daniel C.; Kang,Sung Kwon; McGlashan Powell,Maurice; O'Sullivan,Eugene J.; Walker,George F., Method to selectively cap interconnects with indium or tin bronzes and/or oxides thereof and the interconnect so capped.
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  22. Tangi Abdallah,MAX ; Elhark Mohamed,MAX ; Ben Bachir Ali,MAX ; Srhiri Abdellah,MAX ; Cherkaoui Mohamed,MAX ; Ebntouhami Mohamed,MAX ; Saaoudi El Mustapha,MAX, Self-catalytic bath and method for the deposition of a nickel-phosphorus alloy on a substrate.

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