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Air elimination system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05C-011/10
출원번호 US-0379886 (1995-01-27)
발명자 / 주소
  • Tran Chuong R. (San Jose CA)
출원인 / 주소
  • Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. (JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 1

초록

A system for eliminating air from liquid-carrying conduits, in particular in a photoresist dispensing system, with features for reducing the possibility of contamination by residual resist in the conduits after the air elimination process has been carried out. Double or multiple tubing, with one or

대표청구항

A photoresist dispensing system comprising: a trap tank for receiving resist from a resist supply, and for dispensing said resist; a sensor associated with said trap tank which is operative to detect an excess of gas in said trap tank and to issue a sensor signal in response thereto; a vacuum genera

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Burch Daniel E. (Lewisville TX), Liquid dispensing system.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Englhardt, Eric A.; Rice, Michael R.; Hudgens, Jeffrey C.; Hongkham, Steve; Pinson, Jay D.; Salek, Mohsen; Carlson, Charles; Weaver, William T; Armer, Helen R., Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes.
  2. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Katwyk, Kirk Van; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Cartesian robot cluster tool architecture.
  3. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  4. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  5. Ishikawa, Tetsuya; Roberts, Rick J.; Armer, Helen R.; Volfovski, Leon; Pinson, Jay D.; Rice, Michael; Quach, David H.; Salek, Mohsen S.; Lowrance, Robert; Backer, John A.; Weaver, William Tyler; Carlson, Charles; Wang, Chongyang; Hudgens, Jeffrey; Herchen, Harald; Lue, Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  6. Ishikawa,Tetsuya; Roberts,Rick J.; Armer,Helen R.; Volfovski,Leon; Pinson,Jay D.; Rice,Michael; Quach,David H.; Salek,Mohsen S.; Lowrance,Robert; Backer,John A.; Weaver,William Tyler; Carlson,Charles; Wang,Chongyang; Hudgens,Jeffrey; Herchen,Harald; Lue,Brian, Cluster tool architecture for processing a substrate.
  7. Volfovski, Leon; Ishikawa, Tetsuya, Cluster tool substrate throughput optimization.
  8. Kiba Yukio,JPX ; Semba Norio,JPX ; Hasebe Keizo,JPX, Resist processing system having process solution deaeration mechanism.
  9. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Van Katwyk, Kirk; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a Cartesian robot cluster tool.
  10. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Katwyk, Kirk Van; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool.
  11. Rice, Mike; Hudgens, Jeffrey; Carlson, Charles; Weaver, William Tyler; Lowrance, Robert; Englhardt, Eric; Hruzek, Dean C.; Silvetti, Dave; Kuchar, Michael; Van Katwyk, Kirk; Hoskins, Van; Shah, Vinay, Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool.
  12. Wang, Chung-Cheng, System and method for dispensing photoresist.
  13. Wang, Chung-Cheng, System and method for dispensing photoresist.
  14. Livchak, Andrey V.; Jones, Joe, Water spray fume cleansing with demand-based operation.
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