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[미국특허] Coating substrate with crosslinked conductive polymer 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05D-003/02
  • B05D-003/06
  • B05D-007/02
  • B05D-007/04
출원번호 US-0691128 (1996-08-01)
발명자 / 주소
  • Bayless
  • Jr. John H. (Hendersonville NC) Johnes Donald K. (Hendersonville NC)
출원인 / 주소
  • Sterling Diagnostic Imaging, Inc. (Glasgow DE 02)
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 11

초록

A process for forming a conductive substrate comprises coating onto a polyethylene terephthalate substrate an aqueous coating solution containing a conductive crosslinkable polymer with charge carrying groups such as sulfonic acid, sulfuric acid ester or quaternary ammonium salt groups attached to a

대표청구항

A process for forming a conductive substrate, comprising: (a) preparing an aqueous coating solution comprising: (i) water; (ii) a conductive crosslinkable polymer of the formula [Figure] wherein: X is a divalent linking group; L is a charge carrying group; R1, R2 and R3 independently represent hydro

이 특허에 인용된 특허 (11) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Tachibana Noriki (Tokyo JPX) Saito Yoichi (Tokyo JPX), Antistatic layer containing hydrophobic polymer particles and conductive polymer.
  2. Takahashi Teruo (Hachioji JPX) Miura Sadayoshi (Yamato JPX), Antistatic polyester film.
  3. Jones Raymond T. (Webster NY) Anderson Charles C. (Rochester NY), Cross-linked conductive polymers and antistat coatings employing the same.
  4. Anderson Charles C. (Rochester NY) Jones Raymond T. (Webster NY), Cross-linked polymers from vinyl benzene sulfonate salts, ethylenic hydroxy monomers and hydroxyl containing binder poly.
  5. Beisswenger Rudolf W. (Neu-Isenburg NY DEX) Gundlach Kurt B. (Webster NY), Element having improved adhesion of auxiliary layers to film supports containing antistatic layers.
  6. Ono Hisao (Yokkaichi JPX) Ito Katsumi (Suzuka JPX) Uekawa Tatuo (Yokkaichi JPX) Ishikawa Katsuhiro (Chiba JPX), Homopolymers of sulfonated isoprene and 1,3-butadiene and agents containing the same.
  7. Schadt ; III Frank L. (Wilmington DE), Photographic element in which the antistatic layer is interlinked in the base.
  8. Hardam William M. (Wilmington DE) Schadt ; III Frank L. (Wilmington DE) Taggi Arthur J. (Hockessin DE), Photographic element with antistatic polymers.
  9. Miller Conrad E. (Hendersonville NC), Photosensitive element having improved antistatic layer.
  10. Cho Thomas B. (East Brunswick NJ), Process of making photographic silver halide element with backing layers with improved coating properties.
  11. Kobayashi Hiroya (Osaka) Shimomura Tadao (Osaka) Okamura Kazuhiro (Osaka) Sano Yoshinori (Hyogo JPX), Waterproofing tape comprising ethylenic sulfonate polymers.

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