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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0289215 (1994-08-12) |
우선권정보 | JP-0223845 (1993-08-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 12 |
A thin-film forming device including a reaction chamber having an atmosphere different from that in the outside world, a susceptor rotatably disposed in the reaction chamber for mounting a substrate thereon to form a thin film thereon, and a nozzle disposed within the reaction chamber facing the sus
A thin-film forming device including a reaction chamber having an atmosphere different from that externally thereof, a susceptor rotatably disposed in said reaction chamber for mounting a substrate thereon to form a thin film thereon, and a nozzle disposed within said reaction chamber facing said su
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