[특허]Method for forming multilayered barrier structures

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B29C-047/00
출원번호	US-0366817 (1994-12-30)
발명자 / 주소	Wilfong Debra L. (Lake Elmo MN) Rolando Richard J. (Oakdale MN)
출원인 / 주소	Minnesota Mining and Manufacturing Company (St. Paul MN 02)
인용정보	피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 0

초록 ▼

Multilayered barrier structures comprising a gas barrier layer of a non-chlorine containing organic polymer which is substantially impermeable to oxygen gas and a moisture barrier layer of a mesophase propylene-based material are provided. These structures are environmentally compatible and radiation resistant, and exhibit one or more additional properties, including gas barrier properties, moisture barrier properties, toughness, heat sealability, softness, and quietness during wrinkling. Also provided are methods of preparing and using such multilayered barrier structures, and articles, such as films, pouches, and tubings, formed from these structures, as well as multilayer barrier structures with additional graft layers affixed thereto through the application of a dose of ionizing radiation.

대표청구항 ▼

A method for forming a multilayered structure comprising: (a) coextruding a propylene-based material along with a non-chlorine containing organic polymer which is substantially impermeable to oxygen gas to form a multilayered extrudate; (b) quenching the multilayered extrudate immediately after extruding to provide a multilayered structure with a core layer of the non-chlorine containing organic polymer and at least one layer of a mesophase propylene-based material proximate the core layer; and (c) grafting a graft layer to at least a portion of the multilayered structure through exposure to a dosage of ionizing radiation.

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