최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0519373 (1995-08-25) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 59 인용 특허 : 4 |
A temperature control apparatus for single wafer etching tools comprising a cathode electrode, an isolation layer, and chuck means, respectfully, which are vertically stacked to support a wafer to be etched. A layer of thermoelectric elements is disposed between the isolation layer and the chuck mea
In a temperature control apparatus for single wafer etching tool of the type having a cathode electrode and chuck means for holding a wafer, the chuck means being disposed on the cathode electrode, wherein the chuck means supports the wafer at a given temperature, the improvement comprising: a therm
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.