$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method for producing at least one recess in a surface of a substrate apparatus for carrying out the said method and use 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/3065
출원번호 US-0640972 (1996-05-10)
우선권정보 DE-4338575 (1993-11-11)
국제출원번호 PCT/DE94/01274 (1994-10-28)
§371/§102 date 1996May1 (1996May1)
국제공개번호 WO-9513525
발명자 / 주소
  • Peters Dethard (Hochstadt DEX)
출원인 / 주소
  • Siemens Aktiengesellschaft (Munchen DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 7

초록

With the proposed method, a masking device (5) with an aperture (6) is placed on the substrate (8), the masking device (5) and the region to be etched (90) on the substrate surface (9) forming a hollow chamber (11) which communicates with the reaction chamber (4) only via the aperture (6). The reces

대표청구항

A method for producing a shaped bed for a membrane of a pressure sensor, in which a recess (10) having a ridgeless profile is etched in a surface (9) of a homogeneous substrate (8) to form the shaped bed, comprising the steps of: a) using a semiconductor material as the substrate (8), b) arranging t

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Kersten Jens-Heinrich (Kamen-Heeren DEX) Schmitz Detlef (Lunen DEX), Deformable container for delivering liquid.
  2. Gobrecht Jens (Gebenstorf CHX) Voboril Jan (Nussbaumen CHX), Method for producing a coating layer for semiconductor technology and also use of the coating layer.
  3. Fujii Tetsuo (Toyohashi JPX) Kuroyanagi Susumu (Anjo JPX) Kuroyanagi Akira (Okazaki JPX) Funahashi Tomohiro (Kasugai JPX) Sakai Minekazu (Aichi JPX) Yoshihara Shinji (Anjo JPX), Method of fabricating a semiconductor pressure sensor.
  4. Sidner Diane W. (Noblesville IN) Yoder Douglas J. (Sharpsville IN) Moss David E. (Kokomo IN), Method of making a semiconductive structure useful as a pressure sensor.
  5. Arndt Frank (Berlin DEX) Schlaak Helmut (Berlin DEX), Process for manufacturing a pressure-difference sensor.
  6. Sidner Diane W. (Noblesville IN) Yoder Douglas J. (Sharpsville IN) Moss David E. (Kokomo IN), Semiconductive structure useful as a pressure sensor.
  7. Koide Akira (Chofu JPX) Sato Kazuo (Tokyo JPX) Suzuki Seiko (Hitachi-Ota JPX) Ichikawa Norio (Mito JPX) Obayashi Hidehito (Tokyo JPX) Hayashi Masahide (Katsuta JPX), Structure and method of manufacturing the same.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Jurgensen Charles W. ; Johnson Gregory A. ; Taravade Kunal N., Confinement device for use in dry etching of substrate surface and method of dry etching a wafer surface.
  2. Jurgensen, Charles W.; Johnson, Gregory A.; Taravade, Kunal N., Confinement device for use in dry etching of substrate surface and method of dry etching a wafer surface.
  3. Inomata,Yosuke; Fukawa,Yuko, Dry etching apparatus, dry etching method, and plate and tray used therein.
  4. Inomata, Yosuke; Fukawa, Yuko, Method for producing a solar cell.
  5. Olsen, Leif C.; Swanson, Leland S.; Edwards, Henry L., Silicon carbide as a stop layer in chemical mechanical polishing for isolation dielectric.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로