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Antimicrobial polymer composition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A01N-025/26
  • A01N-025/08
출원번호 US-0614251 (1996-03-12)
우선권정보 JP-0080881 (1995-03-14)
발명자 / 주소
  • Hagiwara Zenji (Kusatsu JPX)
출원인 / 주소
  • Hagiwara Research Corporation (Shiga-Ken JPX 03) Japan Electronic Materials Corporation (Hyogo-Ken JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 8

초록 ▼

The present invention provides a novel antimicrobial polymer composition having superior weatherability and discoloration resistance to those of the prior art. The present invention provides an antimicrobial polymer composition comprising a polymer and an antimicrobial composition having an antimicr

대표청구항 ▼

An antimicrobial polymer composition comprising (1) a thermoplastic synthetic polymer; an amount of an antimicrobial composition having an antimicrobial coat of an aluminosilicate on the surface of silica gel, wherein said aluminosilicate contains antimicrobial metal ions, and and an amount of thiab

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Hagiwara Zenji (Shiga JPX) Okubo Masao (Hyogo JPX), Antimicrobial composition having resistance to heat and weathers.
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  2. Adam Lothar (Kleinmachnow DDX) Albrecht Ursula (Wilhelmshorst DDX) Burth Ulrich (Kleinmachnow DDX) Kramer Axel (Greifswald DDX) Lck Sieghard (Teltow DDX) Mller Rainer (Kleinmachnow DDX) Neeb Lothar (, Compositions for combatting phytopathogenical fungi and bacteria employing mixtures of benzyl phenol derivatives and car.
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  3. Okabayashi Minahiro (Tsukuba JPX) Bai Zhi-ping (Tsukuba JPX), Fungicide and its use.
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  4. Hagiwara Zenji (Kusatsu JPX) Ohki Hideo (Koshigaya JPX) Hoshino Shigetaka (Sohka JPX) Nohara Saburo (Nishinomiya JPX) Ida Shunya (Nara JPX) Tagawa Kenichi (Osaka JPX), Particle-packed fiber article having antibacterial property.
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  5. Hagiwara Zenji (Shiga JPX) Ando Satoshi (Osaka JPX) Ichihashi Kunio (Osaka JPX) Dono Akira (Osaka JPX), Polymer containing amorphous aluminosilicate particles and process for producing the same.
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  6. Termin Erich (Laufenburg DT) Lenz Arnold (Cologne-Stammheim DT) Bleh Otto (Bergheim DT), Porous silicic acid and its production.
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  7. Hagiwara Zenji (Shiga JPX) Ando Satoshi (Osaka JPX) Nohara Saburo (Hyogo JPX), Process for producing amorphous aluminosilicates.
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  8. Hagiwara Zenji (Shiga JPX) Okubo Masao (Hyogo JPX), Silica-gel based antimicrobial composition having an antimicrobial coat of aluminosilicate on the surface of silica gel.
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이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Hagiwara Zenji,JPX, Antimicrobial polymer composition.
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  2. Burba, III, John L.; Hassler, Carl R.; O'Kelley, C. Brock; Lupo, Joseph A.; Pascoe, Joseph R., Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic.
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  3. Poncelet, Olivier J.; Wettling, Danielle M., Composite material for treating photographic effluents.
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  4. Burba, John, Composition and process for making the composition.
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  5. Burba, III, John L., Composition for treating a fluid.
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  6. Fechner,Joerg Hinrich; Zimmer,Jose; Schnabel,Roland; Schnell,Rupert, Polymers containing bioactive glass with antimicrobial effect.
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  7. Burba, III, John L.; Oriard, Tim L., Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant.
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  8. Cable, Robert; Hassler, Carl; Burba, John, Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species.
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  9. Psaras, Dimitrios; Gao, Yuan; Haneline, Mason; Lupo, Joseph; Landi, Carol, Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions.
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  10. Birthisel, Timothy D.; Lynch, James R.; Smith, Robin, Safened insecticide matter.
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  11. Sigl,Wayne C.; O'Connor,Amanda; McManus,James; Luxhoj,Diane; Bartelt,Linda L., Spot cleaner.
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  12. Gerace, Michael A.; Mason, James P.; Charles, John J., Transparent thermoplastic antimicrobial molding composition.
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  13. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Water purification device for arsenic removal.
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