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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0676448 (1996-07-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 0 |
A method and apparatus are disclosed employing a microwave applicator for use with an electron cyclotron resonance (ECR) plasma source for applications including, but not limited to, etching and chemical vapor deposition. A magnetic field is generated by magnets circumferentially arranged about a ch
[ What is claimed is:] [1.] A plasma source embodying a coaxial microwave applicator comprising:a chamber that is symmetrical about its longitudinal axis, a plasma forming portion being formed along the longitudinal axis of the chamber;means for supporting a specimen adjacent one axial end of the ch
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