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Water repellent for application to glass and water-repellent glass 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C09D-018/316
출원번호 US-0605604 (1996-02-22)
우선권정보 JP-0065148 (1995-02-28)
발명자 / 주소
  • Akamatsu Shoji,JPX
  • Okada Toshiyuki,JPX
출원인 / 주소
  • Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Gearheart
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 3

초록

A water repellent for application to glass, comprising disilazane with the general formula [ STR 1 ] in which n and n' are the same or different integers having values from 2 to 20, and water-repellent glass whose surface has been treated with said water repellent.

대표청구항 ▼

[ I claim:] [1.] A composition comprising a disilazane having the formula: [ STR 6 ] in which n and n' are the same or different integers having values from 2 to 20, wherein said composition includes at least one of silica, calcium carbonate, or magnesium oxide, and said disilazane is present in an

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Huber Peter (Burghausen DEX) Meusel Jurgen (Burghausen DEX), Aqueous polysiloxane emulsions with mica treated with organosilicon compound.
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  2. Kratel Gnter (Durach DEX) Stohr Gnter (Durach DEX) Katzer Hans (Munich DEX), Heat insulating articles.
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  3. Kaijou Akira (Sodegaura JPX), Water-repellent emulsion composition and process for the production thereof.
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이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Yin, Zhiping; Iyer, Ravi; Glass, Thomas R.; Holscher, Richard; Niroomand, Ardavan; Somerville, Linda K.; Sandhu, Gurtej S., Circuitry and gate stacks.
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  2. Li, Weimin; Yin, Zhiping, Composition of matter.
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  3. Li,Weimin; Yin,Zhiping, Compositions of matter and barrier layer compositions.
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  4. Akamatsu Shoji,JPX ; Sasaki Motoshi,JPX, Curable silicone resin composition.
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  5. Li,Weimin; Yin,Zhiping; Budge,William, Low K interlevel dielectric layer fabrication methods.
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  6. Li, Weimin; Yin, Zhiping; Budge, William, Low k interlevel dielectric layer fabrication methods.
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  7. Li,Weimin; Yin,Zhiping; Budge,William, Low k interlevel dielectric layer fabrication methods.
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  8. Li,Weimin; Yin,Zhiping; Budge,William, Low k interlevel dielectric layer fabrication methods.
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  9. Holscher, Richard; Yin, Zhiping; Glass, Tom, Semiconductor constructions.
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  10. Holscher, Richard; Yin, Zhiping; Glass, Tom, Semiconductor constructions having antireflective portions.
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  11. Holscher, Richard; Yin, Zhiping; Glass, Tom, Semiconductor devices having antireflective material.
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  12. Li, Weimin; Yin, Zhiping, Semiconductor devices, and semiconductor processing methods.
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  13. Holscher, Richard; Yin, Zhiping; Glass, Tom, Semiconductor processing methods.
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  14. Li,Weimin; Li,John Q., Semiconductor processing methods.
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  15. Sandhu, Gurtej S.; Sharan, Sujit, Semiconductor processing methods of forming an utilizing antireflective material layers, and methods of forming transistor gate stacks.
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  16. Sandhu,Gurtej S.; Sharan,Sujit, Semiconductor processing methods of forming and utilizing antireflective material layers, and methods of forming transistor gate stacks.
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  17. DeBoer, Scott Jeffrey; Moore, John T., Semiconductor processing methods of transferring patterns from patterned photoresists to materials.
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  18. DeBoer, Scott Jeffrey; Moore, John T., Semiconductor processing methods of transferring patterns from patterned photoresists to materials, and structures comprising silicon nitride.
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  19. DeBoer,Scott Jeffrey; Moore,John T., Semiconductor processing methods of transferring patterns from patterned photoresists to materials, and structures comprising silicon nitride.
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  20. DeBoer,Scott Jeffrey; Moore,John T., Semiconductor processing methods of transferring patterns from patterned photoresists to materials, and structures comprising silicon nitride.
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  21. DeBoer,Scott Jeffrey; Moore,John T., Semiconductor processing methods of transferring patterns from patterned photoresists to materials, and structures comprising silicon nitride.
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  22. Scott Jeffrey DeBoer ; John T. Moore, Semiconductor processing methods of transferring patterns from patterned photoresists to materials, and structures comprising silicon nitride.
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  23. Zhiping Yin ; Ravi Iyer ; Thomas R. Glass ; Richard Holscher ; Ardavan Niroomand ; Linda K. Somerville ; Gurtej S. Sandhu, Semiconductor processing methods, semiconductor circuitry, and gate stacks.
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  24. DeBoer,Scott Jeffrey; Moore,John T., Structures comprising a layer free of nitrogen between silicon nitride and photoresist.
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