$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[미국특허] Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0408022 (1995-03-21)
발명자 / 주소
  • Dickey Eric R.
  • Bjornard Erik J.
출원인 / 주소
  • Viratec Thin Films, Inc.
대리인 / 주소
    Fish & Richardson P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 18

초록 ▼

A cathode body for a rotating cylindrical magnetron wherein the magnetron provides a sputtering zone extending along the length of the cathode body and circumferentially along a relatively narrow region thereof. The cathode body includes an elongated tubular member having a target material at the ou

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A rotating cylindrical magnetron sputtering apparatus for sputtering a thin film of a selected coating material on a substrate using a gas discharge, comprising:an evacuable coating chamber;a cathode including an elongated cylindrical tubular member having a layer of targ

이 특허에 인용된 특허 (18) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Gaertner Walter (Gmunden ATX) Koroschetz Franz (Gmunden ATX) Wagendristel Alfred (Perchtoldsdorf ATX) Bangert Herwig (Vienna ATX), Bar-shaped magnetron or sputter cathode arrangement.
    상세보기
  2. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Cathodic sputtering apparatus.
    상세보기
  3. Penfold ; Alan S. ; Thornton ; John A., Glow discharge method and apparatus.
    상세보기
  4. Hubert Peter (Alzenau DEX) Kussel Barbara (Rodgau DEX) Wirz Peter (Waldernbach DEX), Magnetron cathode sputter coating apparatus.
    상세보기
  5. McKelvey Harold E. (Farmington Hills MI), Magnetron cathode sputtering apparatus.
    상세보기
  6. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Magnetron cathode sputtering apparatus.
    상세보기
  7. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Magnetron cathode sputtering apparatus.
    상세보기
  8. McKelvey, Harold E., Method and apparatus for detecting sputtering target depletion.
    상세보기
  9. Ball Richard C. (Lansing MI), Method and apparatus for use in surface treatment of conveyor supported workholders.
    상세보기
  10. Wolfe Jesse D. (San Ramon CA) Boehmler Carolynn (Vacaville CA) Hofmann James J. (Northfield MN), Method for coating substrates with silicon based compounds.
    상세보기
  11. Parsons Robert R. (Vancouver CAX) McMahon Richard (Vancouver CAX) Thewalt Michael L. (Vancouver CAX), Planar magnetron sputtering device.
    상세보기
  12. Logan Joseph S. (Poughkeepsie NY) Petvai Steve I. (Wappingers Falls NY) Rosu Cornel (Woodstock NY), Quadrupole R.F. sputtering system having an anode/cathode shield and a floating target shield.
    상세보기
  13. McKelvey Harold E. (Plymouth MI), Rotatable sputtering apparatus.
    상세보기
  14. Kuriyama Noboru (Kawasaki JPX), Sputtering device.
    상세보기
  15. Chapin John S. (Boulder CO), Sputtering process and apparatus.
    상세보기
  16. Hessberger Gerhard (Karlstein DEX) Scherer Michael (Rodenbach DEX), Sputtering system for cathode sputtering apparatus.
    상세보기
  17. Kawaguchi Tatsuzo (Yokohama JPX) Koyama Mitsutoshi (Koganei JPX), Sputtering target supporting device.
    상세보기
  18. Wells Bruce D. (Pittsburgh PA) Ferguson Du\Bois J. (Houston TX), Use of activated carbon to remove dissolved organics from uranium leachate.
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (21) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Fiala Robert ; Zeigler Dary ; Welson Darren ; Del Real Jose ; Rudolph James W., Combination CVI/CVD and heat treat susceptor lid.
    상세보기
  2. Barrett, Richard L., Cylindrical AC/DC magnetron with compliant drive system and improved electrical and thermal isolation.
    상세보기
  3. Rietzel,James G.; Johnson,Kevin D., Cylindrical magnetron with self cleaning target.
    상세보기
  4. Galan, Gilbert; Uselding, Jean-Philippe; Comans, Guy; Schloremberg, Marcel, Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure.
    상세보기
  5. Dellaert, Krist; De Bosscher, Wilmert; De Boever, Joannes; Lapeire, Gregory, Flat end-block for carrying a rotatable sputtering target.
    상세보기
  6. Myli, Kari B.; Krisko, Annette J.; German, John R.; Hartig, Klaus, Low-maintenance coating technology.
    상세보기
  7. Myli, Kari B.; Krisko, Annette J.; Brownlee, James E.; Pfaff, Gary L., Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings.
    상세보기
  8. Dennis T. Garn ; Jerry S. Lee ; James W. Rudolph, Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
    상세보기
  9. Fiala, Robert; Rudolph, James W.; Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
    상세보기
  10. Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S.; Rudolph, James W., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
    상세보기
  11. James Warren Rudolph, Method and apparatus for inhibiting infiltration of a reactive gas into porous refractory insulation.
    상세보기
  12. Konstantin K. Tzatzov CA; Alexander S. Gorodetsky CA, Method and apparatus for magnetron sputtering.
    상세보기
  13. Roger A. Ross ; Patrick C. Trujillo ; Robert Fiala, Method and apparatus for pressure measurement in a CVI/CVD furnace.
    상세보기
  14. Crowley, Daniel Theodore, Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus.
    상세보기
  15. De Bosscher, Wilmert, Rotatable sputter target.
    상세보기
  16. Rudolph James Warren, Sealed reactant gas inlet for a CVI/CVD furnace.
    상세보기
  17. Lu, Yiwei, Silicon titanium oxide coating, coated article including silicon titanium oxide coating, and method of making the same.
    상세보기
  18. Lu, Yiwei, Silicon titanium oxide coating, coated article including silicon titanium oxide coating, and method of making the same.
    상세보기
  19. Brabender, Dennis M; Kokoschke, Jeffrey L, Sputtering apparatus including target mounting and control.
    상세보기
  20. Mayer, Raymond M.; Lu, Yiwei, Sputtering target with bonding layer of varying thickness under target material.
    상세보기
  21. Stowell, Michael W., System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties.
    상세보기

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로