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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0574480 (1995-12-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 4 |
Electron beam emitting filaments having a tip with a radius of curvature less than about 50 .ANG. are produced using focused ion beam milling. In one embodiment, platinum is deposited on a tungsten loop electron beam filament and sharpened using focused ion beam milling to a radius of curvature less
[ We claim:] [1.] A method of manufacturing an electron beam emitting filament having a tip, which method comprises: depositing platinum on an electron beam emitting filament; and sharpening the deposited platinum with a focused ion beam to produce the tip.
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