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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0699787 (1996-08-20) |
우선권정보 | JP-0044051 (1994-03-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 47 인용 특허 : 9 |
An exposure method for irradiating a mask from above the mask held in proximity to a substrate positioned below the mask to transfer a mask pattern of the mask to a photosensitive layer of the substrate by exposing the photosensitive layer to a light beam, includes the steps of using a gap-measuring
[ What is claimed is:] [1.] An exposure apparatus for irradiating a mask from above the mask held in proximity to a substrate to transfer a mask pattern of the mask to the substrate by exposing the substrate to a light beam, comprising:a locally-irradiating means, for scanning the mask from above th
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