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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0725756 (1996-10-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 5 |
A number of air actuated valves are added to a conventional apparatus for treating semiconductor wafers with HMDS, hexamethyl-disilazane, vapor to improve the adhesion between the wafers and resist layers. These valves allow for automatic purging of the HMDS vapor from the pipes in the apparatus by
[ What is claimed is:] [1.] A method of treating semiconductor wafers with hexamethyl-disilazane, comprising the steps of:providing a number of semiconductor wafers;providing a means for generating a mixture of hexamethyl-disilazane gas mixed with nitrogen gas;providing a source of dry nitrogen gas;
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