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Exhaust gas treatment unit and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-033/113
  • B01D-053/34
출원번호 US-0646329 (1996-06-04)
우선권정보 JP-0294651 (1994-11-29)
국제출원번호 PCT/JP95/024 (1995-11-28)
§371/§102 date 19960604 (19960604)
국제공개번호 WO-9616720 (1996-06-06)
발명자 / 주소
  • Ibaraki Yoshihiro,JPX
  • Ina Hidekazu,JPX
  • Kawanaka Hideji,JPX
출원인 / 주소
  • Teisan Kabushiki Kaisha, JPX
대리인 / 주소
    Burns, Doane, Swecker & Mathis, L.L.P
인용정보 피인용 횟수 : 26  인용 특허 : 2

초록

The present invention relates to an exhaust gas treatment unit which possesses a stable treating capacity, with a reduced running cost. The exhaust gas treatment unit removes noxious gases such as monosilane contained in an exhaust gas by thermal decomposition. The exhaust gas treatment unit include

대표청구항

[ We claim:] [1.] An exhaust gas treatment unit for removing noxious gases contained in an exhaust gas by thermal decomposition comprising;a heating chamber into which exhaust gas and oxygen are introduced, the heating chamber having an outlet;a heating source disposed at an outer periphery of said

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Smith James R. (Blackford GB2) Timms Peter L. (Bristol GB2), Gas stream purification apparatus.
  2. Hada Michio (Hiroshima JPX) Shiraishi Yoshihiro (Hiroshima JPX) Hino Masao (Hiroshima JPX) Toru Seto (Hiroshima JPX), Method for dust removal from solid-gas contact reactor.

이 특허를 인용한 특허 (26)

  1. Langan John Giles ; Withers ; Jr. Howard Paul, Abatement of NF.sub.3 with metal oxalates.
  2. Seeley, Andrew James; Smith, James Robert, Abatement of semiconductor processing gases.
  3. Ferron, Shawn; Kelly, John; Vermeulen, Robbert, Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants.
  4. Moore Robert R. ; Getty James D. ; Safiullin Ravil, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  5. Moore, Robert R.; Getty, James D.; Safiullin, Ravil, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
  6. Park Young-bae,KRX ; Kim Hyung-ryul,KRX, Apparatus for treating waste gases.
  7. Clawson,Lawrence G.; Dorson,Matthew H.; Mitchell,William L.; Nowicki,Brian J.; Bentley,Jeffrey M.; Davis,Robert; Rumsey,Jennifer W., Auxiliary reactor for a hydrocarbon reforming system.
  8. Endoh Fumitaka,JPX ; Yamada Maya,JPX ; Koseki Shuichi,JPX ; Miyake Shinichi,JPX ; Nitta Akihiko,JPX ; Sugimori Yoshiaki,JPX, Combustion type harmful substance removing apparatus.
  9. Holst Mark ; Carpenter Kent ; Lane Scott ; Arya Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  10. Holst, Mark; Carpenter, Kent; Lane, Scott; Arya, Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  11. Holst,Mark; Carpenter,Kent; Lane,Scott; Arya,Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  12. Jose L. Arno ; Robert M. Vermeulen, Fluorine abatement using steam injection in oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  13. Kim Dong Soo,KRX, Gas scrubber and methods of disposing a gas using the same.
  14. Clawson, Lawrence G.; Dorson, Matthew H.; Mitchell, William L.; Nowicki, Brian J.; Thijssen, Johannes; Davis, Robert; Papile, Christopher; Rumsey, Jennifer W.; Longo, Nathan; Cross, III, James C.; Ri, Integrated hydrocarbon reforming system and controls.
  15. Bentley,Jeffrey M.; Clawson,Lawrence G.; Mitchell,William L.; Dorson,Matthew H., Integrated reformer and shift reactor.
  16. Uehara, Masayuki; Yamamiti, Hiroyasu, Method and apparatus for combustion harmfulness-elimination of PFC gas.
  17. Weber Martin,DEX, Method for removing dust.
  18. Park Young-bae,KRX, Method for treating a waste gas and an apparatus thereof.
  19. Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
  20. Flippo, Belynda G.; Karrup, Keith; Vermeulen, Robbert; Clark, Daniel O., Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber.
  21. Kokun, Ri; Tamata, Shin, Perfluoride processing apparatus.
  22. Pollica,Darryl; Northrop,William F.; Qi,Chunming (Frank C.); Hagan,Mark R.; Smith,Alexis; Clawson,Lawrence, Preferential oxidation reactor temperature regulation.
  23. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
  24. Day, Robert M.; Lopez, Paul E., Semiconductor processing system and method of processing a semiconductor wafer.
  25. Clark, Daniel O.; Moalem, Mehran; Vermeulen, Robbert M.; Chandler, Phil, Systems and methods for treating flammable effluent gases from manufacturing processes.
  26. Park, Young Bae, Waste gas purification apparatus.
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