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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0643138 (1996-05-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 136 인용 특허 : 9 |
A process for determining critical dimension bias or overlay error in a substrate formed by a lithographic process initially provides an array of elements on a substrate, the array comprising a plurality of spaced, substantially parallel elements having a length and a width. The sum of the width of
[ Thus, having described the invention, what is claimed is:] [1.] A method of determining bias or overlay error in a substrate formed by a lithographic process comprising the steps of:a) providing an array of elements on a substrate, the array comprising a plurality of spaced, substantially parallel
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