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Method and apparatus for maintaining sensitive articles in a contaminant-free environment 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F26B-007/00
출원번호 US-0803257 (1997-02-20)
발명자 / 주소
  • Brooks Ray G.
  • Brooks Timothy W.
출원인 / 주소
  • Convey, Inc.
대리인 / 주소
    Mantooth
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 7

초록

Sensitive articles, such as IC wafers can be maintained in a contamination-free condition. A base member is provided for supporting one or more of the sensitive articles. A cover is provided for sealing engagement with a base member so as form a sealed unit. The sealed unit has an interior. The seal

대표청구항

[ We claim:] [4.] A method of providing a contaminant-free environment for sensitive articles, comprising the steps of:a) providing a sealed container, said container having an interior, said articles being located in said interior;b) while said container is sealed, passing a particle-free ionized g

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise , Article storage house in a clean room.
  2. Yamashita, Teppei; Murata, Masanao; Tanaka, Tsuyoshi; Morita, Teruya; Kawano, Hitoshi; Okuno, Atsushi; Tsuda, Masanori; Hayashi, Mitsuhiro, Closed container to be used in a clean room.
  3. Williams Randall S. (Chaska MN) Cheesebrow Nicholas T. (St. Paul MN), Mechanical interface wafer container.
  4. Brooks Ray G. (Irving TX) Brooks Timothy W. (Irving TX) Corris C. James (Elkmont AL), Method and apparatus for maintaining clean articles.
  5. Fukutomi Yoshiteru (Kyoto JPX) Ohtani Masami (Kyoto JPX) Okamoto Takeo (Kyoto JPX), Substrate transport apparatus.
  6. Sugita Masanao (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX), Unmanned conveying device in clean room.
  7. Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise , Wafer airtight keeping unit and keeping facility thereof.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Paul E. Lewis ; Adel George Tannous ; Karl A. Davlin, Method and apparatus for processing tool interface in a manufacturing environment.
  2. Chang Ching-Yu,TWX, Method for drying a semiconductor wafer.
  3. Dao, Giang T.; Kuse, Ronald J., Method of transporting a reticle.
  4. Tieben, Anthony Mathius; Halbmeier, David L.; Kolbow, Steven P., Purge system for a substrate container.
  5. Dao Giang T. ; Kuse Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  6. Dao, Giang T.; Kuse, Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  7. Dao, Giang T.; Kuse, Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  8. Dao,Giang T.; Kuse,Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  9. Tieben, Anthony Mathius; Lystad, John; Halbmaier, David L., Substrate container with fluid-sealing flow passageway.
  10. Tieben,Anthony Mathius; Lystad,John; Halbmaier,David L., Substrate container with fluid-sealing flow passageway.
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