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Amorphous multi-layered structure and method of making the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05H-001/24
  • C23C-016/00
  • B05D-001/36
  • B05D-005/12
출원번호 US-0614703 (1996-03-13)
발명자 / 주소
  • Menu Eric P.
  • Song John
  • Coll Bernard F.
출원인 / 주소
  • Motorola, Inc.
대리인 / 주소
    Tobin
인용정보 피인용 횟수 : 25  인용 특허 : 11

초록 ▼

An amorphous multi-layered structure (100, 200) is formed by a method including the steps of: i) positioning a deposition substrate (101) in a physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) ii) ionizing a precursor of a multi-phase material within the physical vapor deposition apparatus (300, 4

대표청구항 ▼

[ We claim:] [1.] A method for forming an amorphous multi-layered structure comprising the steps of:providing a physical vapor deposition apparatus having an evacuated enclosure;providing a deposition substrate within the evacuated enclosure;providing a precursor of a multi-phase material within the

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Moran Mark B. (Ridgecrest CA) Johnson Linda F. (Ridgecrest CA) Klemm Karl A. (Ridgecrest CA), Control of crystallite size in diamond film chemical vapor deposition.
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  2. Moyer Curtis D. (Phoenix AZ), Diamond cold cathode using patterned metal for electron emission control.
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  3. Jin Sungho (Millington NJ) Kochanski Gregory P. (Dunellen NJ) Zhu Wei (North Plainfield NJ), Field emission devices employing activated diamond particle emitters and methods for making same.
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  4. Korsten Andreas (Balkhausen DT) Benecke Theodor (Grefrath DT) Korndorfer Eugen (Heiligblut DT) Petersen Fritz (Grefrath DT) Wiebke Gunter (Munich DT), Furnace installation operated by direct electrical heating according to the resistance principle in particular for prepa.
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  5. Mort Joseph (Webster NY) Jansen Frank (Walworth NY) Okumura Koji (Rochester NY) Grammatica Steven J. (East Rochester NY) Morgan Michael A. (Penfield NY), Heterogeneous electrophotographic imaging members of amorphous silicon and silicon oxide.
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  6. Itoh Kenji (Zama JPX), Improved carbon containing thin film formed by increasing bias voltage during a plasma CVD process.
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  7. Cronin John E. (Milton VT) Morrett Kent E. (Essex Junction VT) Potter Michael D. (Grand Isle VT) Sullivan Timothy D. (Underhill VT), Lateral field emission devices.
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  8. Ong Tiong P. (Austin TX) Shing Yuh-Han (Hsinchu TWX), Low pressure growth of cubic boron nitride films.
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  9. Otto Jurgen (Mannheim DEX) Segner Johannes (Stromberg DEX) Paquet Volker (Mainz DEX), Plasma CVD method of producing a gradient layer.
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  10. Moyer Curtis D. (Phoenix AZ) Jaskie James E. (Scottsdale AZ) Song John (Tempe AZ), Single substrate, vacuum fluorescent display incorporating triode light emitting devices.
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  11. Zimmerman Steven M. (Pleasant Valley NY), Structures and processes for fabricating field emission cathodes.
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이 특허를 인용한 특허 (25)

  1. Li, Zhuang; Rossman, Kent; Yiin, Tzuyuan, Deposition of amorphous silicon films by high density plasma HDP-CVD at low temperatures.
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  2. Xueping Xu ; George R. Brandes ; Christopher J. Spindt ; Colin D. Stanners ; John M. Macaulay, Fabrication of electron emitters coated with material such as carbon.
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  3. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S.; Thomas, Kurt, Faucet.
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  4. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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  5. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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  6. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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  7. Brondum, Klaus, Faucet with wear-resistant valve component.
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  8. Xie Chenggang ; Song John ; Pack Sung P., Field emission device having dielectric focusing layers.
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  9. Chour, Kueir-Weei; Huang, Liji; Yu, Jie-Ming; Hwang, Kuo-Hsing; Shih, Chung, Magnetic recording medium with high density, thin dual carbon overcoats.
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  10. Bouchkour, Zakaria; Chauvin, Camille; Sinatti, Frederic, Measuring temperature of metallic part under uniaxial deformation pressure by optical pyrometry.
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  11. Rauschnabel, Johannes; Voigt, Johannes, Method for applying a wear protection layer system having optical properties onto surfaces.
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  12. Fairbairn, Kevin; Rice, Michael; Weidman, Timothy; Ngai, Christopher S; Latchford, Ian Scot; Bencher, Christopher Dennis; Wang, Yuxiang May, Method for depositing an amorphous carbon layer.
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  13. James E. Jaskie ; Albert Alec Talin, Method for scrubbing and passivating a surface of a field emission display.
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  14. Fairbairn,Kevin; Rice,Michael; Weidman,Timothy; Ngai,Christopher S; Latchford,Ian Scot; Bencher,Christopher Dennis; Wang,Yuxiang May, Method of depositing an amorphous carbon layer.
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  15. Fairbairn,Kevin; Rice,Michael; Weidman,Timothy; Ngai,Christopher S; Latchford,Ian Scot; Bencher,Christopher Dennis; Wang,Yuxiang May, Method of depositing an amorphous carbon layer.
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  16. Sullivan John P. ; Friedmann Thomas A., Method of depositing multi-layer carbon-based coatings for field emission.
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  17. Aya, Yoichiro; Noguchi, Yukihiro; Ide, Daisuke; Sotani, Naoya, Method of fabricating a thin film transistor using electromagnetic wave heating of an amorphous semiconductor film.
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  18. Sotani, Naoya, Method of fabricating semiconductor device.
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  19. Saxler, Adam William; Sheppard, Scott; Smith, Richard Peter, Methods of passivating surfaces of wide bandgap semiconductor devices.
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  20. Kim, Bok Hoen; Rathi, Sudha; Ahn, Sang H.; Bencher, Christopher D.; Wang, Yuxiang May; M'Saad, Hichem; Silvetti, Mario D.; Fung, Miguel; Jung, Keebum; Zhu, Lei, Nitrogen-free dielectric anti-reflective coating and hardmask.
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  21. Bencher,Christopher Dennis, Removable amorphous carbon CMP stop.
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  22. Bencher,Christopher Dennis, Removable amorphous carbon CMP stop.
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  23. Chen, Zhizhang; Ramamoorthi, Sriram; Liao, Hung; Benning, Paul; Govyadinov, Alexander, Tunneling emitter with nanohole openings.
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  24. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B.; Thomas, Kurt, Valve component for faucet.
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  25. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B.; Thomas, Kurt, Valve component for faucet.
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