[특허]On-site manufacture of ultra-high-purity hydrochloric acid for semiconductor processing

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[미국특허] On-site manufacture of ultra-high-purity hydrochloric acid for semiconductor processing 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01D-003/00 B01D-045/00 C01B-007/19
출원번호	US-0673579 (1996-07-01)
발명자 / 주소	Hoffman Joe G. Clark R. Scot
출원인 / 주소	Air Liquide Electronics Chemicals & Services, Inc.
대리인 / 주소	Burns, Doane, Swecker & Mathis, L.L.P.
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 0

초록

Highly purified HCl for use in semiconductor manufacturing is prepared on-site by drawing HCl vapor from a liquid HCl reservoir, and scrubbing the filtered vapor in a low-pH aqueous scrubber.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method for supplying a high-purity HCl reagent to a workstation in a production line for the manufacture of a high-precision electronic component, said method comprising:(a) drawing HCl gas from a vapor space above liquid HCl in an HCl-containing reservoir;(b) passing said HCl gas through a filtration membrane for removing particles greater than 0.005 micron therefrom;(c) passing said HCl gas thus filtered through a scrubber whereby said HCl gas is contacted with an aqueous solution of HCl in deionized water; and(d) recovering said HCl gas emerging from said scrubber and directing said HCl gas to said workstation.

이 특허를 인용한 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

Hillyer, Larry; Byrne, Steve; Williamson, Kelly; Hahn, Doug, High aspect ratio contact surfaces having reduced contaminants.
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Joe G. Hoffman ; Wallace I. Yuan, Ionic purifier.
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Hillyer,Larry; Byrne,Steve; Williamson,Kelly; Hahn,Doug, Method and material for removing etch residue from high aspect ratio contact surfaces.
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Urquhart, Karl J.; Thompson, John B.; Hoffman, Joe G., Method for continuously blending chemical solutions.
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Büttner, Werner; Hostalek, Martin; Kan, Ching-Jung; Lu, Chih-Peng, Method for producing high-purity hydrochloric acid.
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Dodd, Michael A.; McFarland, John; Sievert, Wolfgang, Method for producing highly pure solutions using gaseous hydrogen fluoride.
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Misra, Ashutosh; Fisher, Matthew L., Methods of cleaning discolored metallic arrays using chemical compositions.
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Schl?fer, Dieter; Guth, Josef; Schlimper, Hans-Ulrich, Preparation of largely HBr-free HCI gas and largely HBr-free aqueous HCI solution.
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Laederich Thierry,FRX ; Dulphy Herve,FRX, Process and apparatus for producing high-purity chemicals for the microelectronics industry.
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Fanjat, Norbert; Urquart, Karl J.; Soulet, Axel; Langellier, Laurent, Reclaim function for semiconductor processing system.
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Urquhart, Karl J.; Guarneri, Georges; Marc, Jean-Louis; Fanjat, Norbert; Langellier, Laurent; Colin, Christophe, Systems and methods for managing fluids in a processing environment using a liquid ring pump and reclamation system.
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Urquhart, Karl J.; Guarneri, Georges; Marc, Jean-Louis; Fanjat, Norbert; Langellier, Laurent; Colin, Christophe, Systems and methods for managing fluids in a processing environment using a liquid ring pump and reclamation system.
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Urquhart, Karl J.; Guarneri, Georges; Marc, Jean-Louis; Fanjat, Norbert; Langellier, Laurent; Colin, Christophe, Systems and methods for managing fluids using a liquid ring pump.
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Urquhart, Karl J.; Guarneri, Georges; Marc, Jean-Louis; Fanjat, Norbert; Langellier, Laurent; Colin, Christophe, Systems for managing fluids in a processing environment using a liquid ring pump and reclamation system.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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