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Liquified gas dry-cleaning system with pressure vessel temperature compensating compressor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-005/00
  • B08B-011/00
출원번호 US-0998219 (1997-12-24)
발명자 / 주소
  • Roberts James L.
  • Kegler Andrew
출원인 / 주소
  • Raytheon Commercial Laundry LLC
대리인 / 주소
    Leydig, Voit & Mayer, Ltd
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 16

초록 ▼

A liquified gas dry-cleaning system including a storage tank containing a liquified gas derived from a liquifiable gas, a pressure vessel for containing a liquid bath derived from the liquifiable gas, and a circulating system for transporting the liquified gas between the storage tank and the pressu

대표청구항 ▼

[ We claim:] [1.] A liquified gas dry-cleaning system, comprising:a storage tank containing a quantity of liquified gas derived from a liquifiable gas;a pressure vessel containing items to be cleaned in a bath of the liquified gas;a circulating system for transporting the liquified gas between the s

이 특허에 인용된 특허 (16)

  1. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA), Chemical decomposition by sonication in liquid carbon dioxide.
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  2. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA) Stanford Thomas B. (San Pedro CA) Townsend Carl W. (Los Angeles CA), Cleaning by cavitation in liquefied gas.
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  3. Jackson David P. (Saugus CA) Buck Orval F. (Santa Monica CA), Cleaning process using phase shifting of dense phase gases.
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  4. Luppi Giorgio (34 ; Via 10 Maggio I-40011 Anzola Emilia ; Bologna ITX) Luppi Maria L. (34 ; Via 10 Maggio I-40011 Anzola Emilia ; Bologna ITX), Dry cleaning machine.
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  5. Kabakov Vladimir M. (ulitsa Profsojuznaya ; 21 ; korpus 4 4 ; kv. 174 Moscow SUX) Razinkov Ivan E. (Zheleznodorozhny pereulok ; 2a ; kv. 75 Kharkovskaya oblast ; Gotvald SUX), Dry-cleaning machine for textiles.
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  6. Purer Edna M. (Los Angeles CA) Wilkerson Angela Y. (Los Angeles CA) Townsend Carl W. (Los Angeles CA) Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA), Dry-cleaning of garments using gas-jet agitation.
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  7. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Stanford Thomas B. (San Pedro CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA) Wilkerson Angela Y. (Inglewood CA), Dry-cleaning of garments using liquid carbon dioxide under agitation as cleaning medium.
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  8. Townsend Carl W. (Los Angeles CA) Purer Edna M. (Los Angeles CA), Liquid carbon dioxide dry cleaning system having a hydraulically powered basket.
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  9. Stanford,Jr. Thomas B. (San Pedro CA) Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA), Low cost equipment for cleaning using liquefiable gases.
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  10. Coindreau-Palau Damaso (Bosques de Chapultepec 104 Col. Bosques Del Valle Monterrey ; Nuevo Leon MXX), Method and system for the recovering of solvents in dry cleaning machines.
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  11. Yamada Kiyomi (Nagoya) Hagiwara Haruo (Nagoya) Takagi Nobuharu (Nagoya) Tsukamoto Hideo (Nagoya) Tsubaki Yasuhiro (Nagoya) Hattori Toshio (Nagoya JPX), Method for dry cleaning as well as a method for recovery of solvent therein.
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  12. Stanford ; Jr. Thomas B. (San Pedro CA) Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA), Method using megasonic energy in liquefied gases.
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  13. Gillis ; Jr. Patrick J. (Stoughton MA) Sklar Benjamin (Plymouth MA) Kral Andrew J. (Walpole MA) Randolph Marshall C. (Wellesley MA), Mobile CO2 blasting decontamination system.
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  14. Grant David C. H. (Selbyville DE), Solvent recovery and reclamation system.
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  15. Mori Tetsuya (Kitakyushu JPX) Tamazumi Hitoshi (Kitakyushu JPX), Solvent recovery system.
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  16. Chao Sidney C. (Manhattan Beach CA) Stanford ; Jr. Thomas B. (San Pedro CA) Palen Edward J. (Marina Del Rey CA) Lee Chris (Los Angeles CA), Supercritical fluid cleaning apparatus without pressure vessel.
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이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Walker James M., Apparatus and method for detecting a liquid level in a sealed storage vessel.
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  2. Yokomizo,Kenji, Apparatus and method of securing a workpiece during high-pressure processing.
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  3. Preston, A. Duane; Turner, Jon R.; Svoboda, Charles, Carbon dioxide dry cleaning system.
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  4. James B. McClain ; Gary Schrebe ; Kenneth Grakauskas ; Timothy J. Romack, Cleaning apparatus.
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  5. McClain James B. ; Schrebe Gary ; Grakauskas Kenneth ; Romack Timothy J., Cleaning apparatus.
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  6. McClain James B. ; Schrebe Gary ; Grakauskas Kenneth ; Romack Timothy J., Cleaning apparatus.
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  7. McClain James B. ; Schrebe Gary ; Grakauskas Kenneth ; Romack Timothy J., Cleaning apparatus.
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  8. Wandke, Ernst; Strigl, Reinhard, Cleaning device and method for cleaning, using liquid and/or supercritical gases.
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  9. Jones,William Dale, Control of fluid flow in the processing of an object with a fluid.
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  10. Sheydayi,Alexei; Sutton,Thomas, Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels.
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  11. Jones, William D., High pressure fourier transform infrared cell.
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  12. Biberger,Maximilian A.; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, High pressure processing chamber for semiconductor substrate.
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  13. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
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  14. Jones,William Dale, High-pressure processing chamber for a semiconductor wafer.
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  15. James B. McClain ; Gary C. Schrebe, Internal motor drive liquid carbon dioxide agitation system.
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  16. Goshi,Gentaro, Method and apparatus for cooling motor bearings of a high pressure pump.
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  17. Biberger,Maximilian Albert; Layman,Frederick Paul; Sutton,Thomas Robert, Method of supercritical processing of a workpiece.
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  18. Wuester,Christopher D., Process flow thermocouple.
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  19. McClain, James B.; Cole, Michael E., Pumpless carbon dioxide dry cleaning system.
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  20. McClain James B. ; Brainard David E. ; Cole Michael E. ; Worm Steve L., System for the control of a carbon dioxide cleaning apparatus.
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  21. Jacobson,Gunilla; Yellowaga,Deborah, Treatment of a dielectric layer using supercritical CO.
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  22. Brink Christopher J. ; McChesney Eddie J., Vacuum extraction cleaning system.
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