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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0803353 (1997-02-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 141 인용 특허 : 7 |
This invention describes a method to monitor process parameters from multiple process machines to provide real time statistical process control (SPC). The particular implementation was derived from ion implantation of wafers, but has wide applicability where there are a number of process machines ha
[ What is claimed is:] [1.] A process parameter monitoring system for real time SPC, and comprising:a) production control computer connected to wafer fabrication machinery to monitor key parameters and provide control signals,b) said production control computer containing a database for storage and
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