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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0878729 (1997-06-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 4 |
The present invention teaches electroless liquid vapor deposition/etching process for depositing on a reactive or non-reactive substrate surface or etching a film on a substrate surface in a bathless deposition apparatus during ULSI processing by the steps of: applying liquid chemical precursor solu
[ We claim:] [1.] An electroless deposition process for forming films on a non-reactive substrate surface in a bathless deposition apparatus, said process comprising the steps of:in a controlled environment, applying a liquid chemical precursor solution containing metal ions and a reducing agent sol
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