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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0766053 (1996-12-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 140 인용 특허 : 8 |
The invention is embodied in a plasma reactor having a vacuum chamber with a cylindrical side portion and a ceiling at a certain height above the top of the cylindrical side portion, a wafer-holding pedestal near the bottom of the vacuum chamber, gas injection ports near the cylindrical side portion
[ What is claimed is:] [1.] A plasma reactor having a vacuum chamber with a cylindrical side portion of a first diameter and a ceiling at a certain height above the top of said cylindrical side portion, a wafer-holding pedestal adjacent the bottom of said vacuum chamber, gas injection ports adjacent
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