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Method of making a channel plate for a flat display device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-023/20
출원번호 US-0911080 (1997-08-14)
발명자 / 주소
  • Khan Babar Ali
  • Van Helleputte Henri R. J. R.,NLX
  • Burgmans Adrianus L. J.,NLX
  • Bongaerts Petrus F. G.,NLX
  • Kuijk Karel Elbert,NLX
  • Bruinink Jacob,NLX
출원인 / 주소
  • Philips Electronics North America Corporation
대리인 / 주소
    Fox
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 17

초록

A flat display device, preferably of the PALC type, in which the plasma channels are formed by etching in a substrate laterally-spaced channels and bonding a thin dielectric sheet over the etched substrate. Adjoining each of the channels are shallow ledges, also formed by etching, which serve as rec

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] In a method for making a channel plate for a flat display device, said method comprising the steps of:(a) providing a dielectric substrate,(b) providing a thin dielectric member,(c) forming in the substrate a plurality of substantially parallel channels terminating in sha

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Bongaerts Petrus Franciscus Gerardus,NLX ; Bruinink Jacob,NLX ; Burgmans Adrianus Leonardus Josephus,NLX ; Van Helleputte Henri Roger Jules Richard,NLX ; Khan Babar Ali,NLX ; Kuijk Karel Elbert,NLX ;, Cathode for plasma addressed liquid crystal display.
  2. Bongaerts Petrus Franciscus Gerardus (CS Waalre NLX) Bruinink Jacob (DC Eindhoven NLX) Burgmans Adrianus Leonardus Josephus (KA Eindhoven NLX) van Helleputte Henri Roger Jules Richard (BW Eindhoven N, Channel configuration for plasma addressed liquid crystal display.
  3. Miyazaki Shigeki (Kanagawa JPX) Seki Atsushi (Kanagawa JPX), Discharge chamber and method of manufacturing the same.
  4. Miyazaki Shigeki (Kanagawa JPX), Electro-optical device.
  5. Horne William E. (Bellevue WA), Electro-optically assisted bonding.
  6. Kleiman Rafael N. (Summit NJ), Field-assisted bonding method and articles produced thereby.
  7. Wohltjen Henry (Burke VA) Giuliani John F. (Kensington MD), Method for bonding insulator to insulator.
  8. Kawamura Hiromitsu (Mobara JPX) Nakajima Tokuyoshi (Mobara JPX) Shibuya Yoshimichi (Mobara JPX), Method for fabricating liquid crystal display element.
  9. Ide Akihiko (Hamura JPX) Ueki Tetsuro (Hachioji JPX), Method of manufacturing liquid crystal display device.
  10. Umeya Shinjiro (Kanagawa JPX), Method of producing an electro-optical device.
  11. Lee Seung-Woo (Seoul KRX) Kwon Ki-Duck (Seoul KRX), Plasma addressed liquid crystal display.
  12. Togawa Takahiro (Kanagawa JPX), Plasma addressed liquid crystal display device.
  13. Miyazaki Shigeki (Kanagawa JPX), Plasma addressed liquid crystal display device operable under optimum line sequential drive timing.
  14. Kim Dae-Il (Kyungki KRX), Plasma addressed liquid crystal display with center substrate divided into separate sections.
  15. Bongaerts Petrus F. G. (Waalre NLX) Bruinink Jacob (Eindhoven NLX) Burgmans Adrianus L. J. (Eindhoven NLX) Van Helleputte Henri R. J. R. (Eindhoven NLX) Khan Babar A. (Ossining NY) Kuijk Karel E. (Do, Plasma addressed liquid crystal display with etched electrodes.
  16. Yano Tomoya (Kanagawa JPX), Plasma-addressed liquid crystal display device having a transparent dielectric sheet with a porous layer containing an i.
  17. Andreadakis Nicholas C. (Readington Township ; Hunterdon County NJ), Process for fabrication of high resolution flat panel plasma displays.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Cantell, Marc W.; Natzle, Wesley; Ruegsegger, Steven M., Etching of hard masks.
  2. Zonneveld Maarten H.,NLX ; Van Voorst Vader Pieter J. Q.,NLX ; Brinkert Jacob,NLX, Method of manufacturing a flat glass panel for a picture display device.
  3. Van Der Wel, Pieter, Plasma addressed display device with a function of controlling partial pressure of dopant gas.
  4. Kim, Dae-Il; Kokonaski, William, Plasma display panel having trench discharge cells with one or more electrodes formed therein and extended to outside of the trench.
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