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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0850257 (1997-05-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 1 |
A method of growing 4-H polytype silicon carbide crystals in a physical vapor transport system where the surface temperature of the crystal is maintained at less than about 2160.degree. C. and the pressure inside the PVT system is decreased to compensate for the lower growth temperature.
[ What I claim is:] [1.] A method of growing a 4-H polytype silicon carbide crystal comprising the steps of:a) providing a physical vapor transport growth chamber having a silicon carbide source material and a silicon carbide seed on a seed holder where the growth chamber is filled with a gas ambien
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