최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0667387 (1996-06-21) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 17 |
An AC plasma processing system according to the present invention may include a transformer for placing an alternating current on a first electrode and a second electrode contained within a process chamber. The secondary winding of the transformer is connected across the first and second electrodes.
[ What is claimed is:] [14.] A plasma processing system, comprising:a vacuum chamber having a first electrode and a second electrode, said vacuum chamber being adapted to receive a process gas and maintain said process gas within a predetermined pressure;a transformer having a primary winding and a
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.