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Process for growing single crystal 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C30B-029/36
출원번호 US-0689272 (1996-08-06)
우선권정보 JP-0200610 (1995-08-07)
발명자 / 주소
  • Kitoh Yasuo,JPX
  • Suzuki Masahiko,JPX
  • Sugiyama Naohiro,JPX
출원인 / 주소
  • Nippondenso Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Cushman Darby & Cushman Intellectual Property Group of Pillsbury Madison & Sutro, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 3

초록

A process for growing a single crystal comprises providing a single crystal substrate acting as a seed crystal above a source material in a container, heating the source material in an inert gas atmosphere in the container to form a sublimed source material, and discharging the sublimed source mater

대표청구항

[ We claim:] [1.] A process for growing a single crystal, comprising:placing a source material and a single crystal substrate in an inert gas atmosphere, said single crystal substrate including a seed crystal and having a surface on which a single crystal is to be grown;heating said source material

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Furukawa Katsuki (Sakai JPX) Tajima Yoshimitsu (Nara JPX) Suzuki Akira (Nara JPX), Method of producing silicon-carbide single crystals by sublimation recrystallization process using a seed crystal.
  2. Takahaski Jun (Sagamihara JPX) Kanaya Masatoshi (Sagamihara JPX), Sublimation growth of single crystal SiC.
  3. Davis Robert F. (Raleigh NC) Carter ; Jr. Calvin H. (Raleigh NC) Hunter Charles E. (Durham NC), Sublimation of silicon carbide to produce large, device quality single crystals of silicon carbide.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Balakrishna Vijay ; Augustine Godfrey ; Gaida Walter E. ; Thomas R. Noel ; Hopkins Richard H., Advanced physical vapor transport method and apparatus for growing high purity single crystal silicon carbide.
  2. Tsvetkov,Valeri F.; Malta,David Phillip; Jenny,Jason Ronald, Apparatus and method for the production of bulk silicon carbide single crystals.
  3. Biris,Alexandru Sorin; Biris,Alexandru Radu; Lupu,Dan; Wilkes,Jon Gardner; Buzatu,Dan Alexander; Miller,Dwight Wayne; Darsey,Jerry A., Apparatus and methods for synthesis of large size batches of carbon nanostructures.
  4. Kuhn, Harald; Stein, Rene; Voelkl, Johannes, Device having a foil-lined crucible for the sublimation growth of an SiC single crystal.
  5. Zwieback, Ilya; Anderson, Thomas E.; Gupta, Avinash K., Halosilane assisted PVT growth of SiC.
  6. Kazukuni Hara JP; Kouki Futatsuyama JP; Shoichi Onda JP; Fusao Hirose JP; Emi Oguri JP; Naohiro Sugiyama JP; Atsuto Okamoto JP, Method and apparatus for fabricating high quality single crystal.
  7. Kordina, Olle Claes Erik; Paisley, Michael James, Method and apparatus for growing silicon carbide crystals.
  8. Tsvetkov,Valeri F.; Malta,David P., Method and apparatus for the production of silicon carbide crystals.
  9. Kaneko, Tadaaki; Asaoka, Yasushi; Sano, Naokatsu, Method for producing single crystal silicon carbide.
  10. Kuhn, Harald; Stein, Rene; Voelkl, Johannes, Method for the sublimation growth of an SiC single crystal, involving heating under growth pressure.
  11. Mueller, Stephan, Methods of fabricating silicon carbide crystals.
  12. Mueller,Stephan, Methods of fabricating silicon carbide crystals.
  13. Mueller,Stephan, Methods of fabricating silicon carbide crystals.
  14. Biris, Alexandru S.; Dervishi, Enkeleda; Xu, Yang; Li, Zhongrui, Methods of making horizontally oriented long carbon nanotubes and applications of same.
  15. Nakabayashi, Masashi; Fujimoto, Tatsuo; Sawamura, Mitsuru; Ohtani, Noboru, Monocrystalline silicon carbide ingot, monocrystalline silicon carbide wafer and method of manufacturing the same.
  16. Nakabayashi, Masashi; Fujimoto, Tatsuo; Sawamura, Mitsuru; Ohtani, Noboru, Monocrystalline silicon carbide ingot, monocrystalline silicon carbide wafer and method of manufacturing the same.
  17. Nakabayashi, Masashi; Fujimoto, Tatsuo; Sawamura, Mitsuru; Ohtani, Noboru, Monocrystalline silicon carbide ingot, monocrystalline silicon carbide wafer and method of manufacturing the same.
  18. Nakabayashi, Masashi; Fujimoto, Tatsuo; Sawamura, Mitsuru; Ohtani, Noboru, Silicon carbide single crystal, silicon carbide single crystal wafer, and method of production of same.
  19. Zwieback, Ilya; Gupta, Avinash K., Silicon carbide with low nitrogen content and method for preparation.
  20. Kaneko, Tadaaki; Asaoka, Yasushi; Sano, Naokatsu, Single crystal silicon carbide and method for producing the same.
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