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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0842997 (1997-04-25) |
우선권정보 | KR-0012814 (1996-04-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 10 |
The present invention discloses a plasma etching apparatus which can protect the surface of the wafer from a damage due to collisions among the etching ions and can also process a plurality of wafers only by one-time plasma generation. In the etching apparatus of the present invention, a plurality o
[ What is claimed is:] [1.] A plasma etching apparatus comprising:a chamber to which a plurality of vacuum pressure supplying tubes are connected, said vacuum pressure supplying tubes connected to upper and lower portions of side walls of said chamber;an etching gas supplying tube for supplying an e
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