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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0906461 (1997-08-05) |
우선권정보 | DE-0031407 (1996-08-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 6 |
In an apparatus for the deposition of polycrystalline diamond on large, flat substrates (3) by the plasma method, with a vacuum chamber (4); with locks for the inward and outward transfer of the substrates; with a device installed in the chamber (4) for conveying the substrates (3) through at least
[ What is claimed is:] [1.] Apparatus for the deposition of polycrystalline diamond by the plasma method on large, flat substrates, said apparatus comprising; a vacuum chamber having transfer locks for the inward and outward transfer of the substrates; a device supported in said chamber having for c
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