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Low temperature inert gas purifier 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01J-023/755
  • B01D-053/02
  • B01D-059/26
출원번호 US-0536864 (1995-09-29)
발명자 / 주소
  • Carrea Giovanni
  • Warrick Brian D.
출원인 / 주소
  • D.D.I. Limited
대리인 / 주소
    Jaffer
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 6

초록

A two-stage process method for removal of impurities such carbon monoxide, carbon dioxide, oxygen, water, hydrogen, and methane from inert gases at ambient temperature (0.degree.-60.degree. C.). In the first stage the inert gas is contacted with a nickel catalyst, and in the second stage the inert g

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A purifier apparatus for low temperature removal of impurities from a noble gas or nitrogen at temperatures between 0.degree. C. and 60.degree. C., the apparatus having a plurality of purification zones consisting of:(a) a first purification zone containing a particulate

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Jain Ravi (Piscataway NJ), Apparatus for low temperature purification of gases.
  2. Jain Ravi (Piscataway NJ), Low temperature purification of gases.
  3. Briesacher Jeffrey L. (Pismo Beach CA) Applegarth Charles H. (San Luis Obispo CA) Lorimer D\Arcy H. (Pismo Beach CA), Method and apparatus for removing residual hydrogen from a purified gas.
  4. Weltmer William R. (Murray Hill NJ) Whitlock Walter H. (Peapack NJ), Methods for purifying inert gas streams.
  5. Boffito Claudio (Milan ITX) Barosi Aldo (Milan ITX) Figini Alessandro (Milan ITX), Non-evaporable ternary gettering alloy and method of use for the sorption of water, water vapor and other gases.
  6. Tamhankar Satish (Scotch Plains NJ) Weltmer William R. (Murray Hill NJ), One-step process for purifying an inert gas.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Fetcenko, Michael A.; Ovshinsky, Stanford R.; Young, Kwo, Finely divided metal catalyst and method for making same.
  2. Srivastava, Abneesh; Gaffney, Thomas Richard; Cook, Joshua T.; Shogren, Peter K.; Murphy, Daimhin Paul; da Costa Pereira, Stenio, Gas purifier.
  3. Srivastava, Abneesh; Gaffney, Thomas Richard; Cook, Joshua T.; Shorgen, Peter K.; Murphy, Daimhin Paul; da Costa Pereira, Stenio, Gas purifier.
  4. Iyer, Mahesh V.; Fan, Liang-Shih; Ramkumar, Shwetha, High purity, high pressure hydrogen production with in-situ COand sulfur capture in a single stage reactor.
  5. Iyer, Mahesh V.; Fan, Liang-Shih, High temperature COcapture using engineered eggshells: a route to carbon management.
  6. Bergman Carl,SEX, Method for hot-isostatic pressing of parts.
  7. Pusterla, Luca; Stimac, Robert; Bonucci, Antonio; Succi, Marco, Method for measuring the concentration of nitrogen in argon by means of ion mobility spectrometry.
  8. Torres, Jr.,Robert; Vivinski,Joseph; Lawrence,David, Methods for regenerating process gas purifier materials.
  9. Lok, Cornelis Martinus, Nickel catalysts on transition alumina.
  10. Yamauchi, Toshiharu; Yamauchi, Tunenori; Toyota, Kumiko, Nitride film forming method, semiconductor device fabrication method, capacitor fabrication method and nitride film forming apparatus.
  11. Anderson, Erling Richard; Carlton, Stephen Mitchell; Dawes, Steven Bruce; Jewell, John Michael; Rose, Roger Alan, Regeneration process for metal catalyst based gas purifiers.
  12. Weber, Daniel K.; Vergani, Giorgio, Rejuvenable ambient temperature purifier.
  13. Fan, Liang Shih; Gupta, Himanshu; Iyer, Mahesh V., Separation of carbon dioxide (CO) from gas mixtures.
  14. Fan, Liang-Shih; Gupta, Himanshu; Iyer, Mahesh V., Separation of carbon dioxide from gas mixtures by calcium based reaction separation.
  15. Succi, Marco; Landoni, Cristian; Vogt, Sarah; Applegarth, Charles H., System and method for ultra high purity (UHP) carbon dioxide purification.
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