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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0536864 (1995-09-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 6 |
A two-stage process method for removal of impurities such carbon monoxide, carbon dioxide, oxygen, water, hydrogen, and methane from inert gases at ambient temperature (0.degree.-60.degree. C.). In the first stage the inert gas is contacted with a nickel catalyst, and in the second stage the inert g
[ What is claimed is:] [1.] A purifier apparatus for low temperature removal of impurities from a noble gas or nitrogen at temperatures between 0.degree. C. and 60.degree. C., the apparatus having a plurality of purification zones consisting of:(a) a first purification zone containing a particulate
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