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[미국특허] Loadlock cassette with wafer support rails 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-023/02
출원번호 US-0752462 (1996-11-18)
발명자 / 주소
  • Lane Christopher
  • Sundar Satish
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson & Associates
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 14

초록

The present invention provides a wafer cassette generally comprising one or more wafer support plates defining two or more coplanar wafer seats, a movable stem supporting the wafer support plates, and an actuating member connected to the stem to move the wafer support plates.

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A wafer cassette, comprising:(a) one or more wafer support plates defining two or more coplanar wafer seats;(b) a movable stem supporting the wafer support plates; and(c) an actuating member connected to the stem to move the wafer support plates.

이 특허에 인용된 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Maeda Kazuo (Tokyo JPX) Ohira Kouichi (Tokyo JPX) Hirose Mitsuo (Tokyo JPX), Apparatus for manufacturing semiconductor device.
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  2. Toshima Masato M. (Sunnyvale CA) Salzman Phil M. (San Jose CA) Murdoch Steven C. (Palo Alto CA) Wang Cheng (San Jose CA) Stenholm Mark A. (San Jose CA) Howard James (San Jose CA) Hall Leonard (San Jo, Dual cassette load lock.
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  3. Thomas Michael E. (Milpitas CA) van de Van Everhardus P. (Cupertino CA) Broadbent Eliot K. (San Jose CA), Gas-based backside protection during substrate processing.
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  4. Mizuno Shigeru (Fuchu JPX) Katsumata Yoshihiro (Fuchu JPX) Takahashi Nobuyuki (Fuchu JPX), Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates.
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  5. Mizuno Shigeru (Kawasaki JPX) Katsumata Yoshihiro (Fujiyoshida JPX) Takahashi Nobuyuki (Mitaka JPX), Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates.
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  6. Lorimer D\Arcy H. (Pismo Beach CA), Low particulate slit valve system and method for controlling same.
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  7. Maydan Dan (Los Altos Hills CA) Somekh Sasson (Redwood City CA) Wang David N. (Cupertino CA) Cheng David (San Jose CA) Toshima Masato (San Jose CA) Harari Isaac (Mountain View CA) Hoppe Peter D. (Sun, Multichamber integrated process system.
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  8. Gronet Christian M. ; Gibbons James F., Rapid thermal heating apparatus and method.
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  9. Tepman Avi (Cupertino CA) Andrews Dana L. (Mountain View CA), Slit valve apparatus and method.
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  10. Cheng David (San Jose CA) Zhang Wesley W. (Burlingame CA), System and method for detecting the center of an integrated circuit wafer.
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  11. Lowrance Robert B. (Los Gatos CA), Two-axis magnetically coupled robot.
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  12. Toshima Masato (Campbell CA), Vacuum chamber slit valve.
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  13. Davis ; Jr. James C. (Carlisle MA), Valve.
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  14. Szalai Laszlo (Campbell CA), Valve closure mechanism for semiconductor deposition apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (27) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Schauer, Ronald Vern; Lappen, Alan Rick, Apparatus for alignment of automated workpiece handling systems.
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  2. Jean-Claude Nodot FR; Jacky Winter FR, Apparatus for calibrating the alignment of a wafer cassette holder to a robot blade.
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  3. Borean, Christophe; Delcarri, Jean-Luc, Device and process for chemical vapor phase treatment.
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  4. Otaguro, Tetsunori, Drive-section-isolated FOUP opener.
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  5. Otaguro,Tetsunori, Drive-section-isolated FOUP opener.
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  6. Tepman Avi, Front end vacuum processing environment.
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  7. Kevin Fairbairn ; Howard E. Grunes ; Christopher Lane ; Kelly A. Colborne, Load-lock with external staging area.
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  8. Imanishi,Makoto; Narita,Shoriki; Ikeya,Masahiko; Kanayama,Shinji; Mae,Takaharu, Method of forming bumps on a wafer utilizing a post-heating operation, and an apparatus therefore.
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  9. Dougan, James; Tegeder, Volker, Semiconductor wafer pod.
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  10. Wang,Hougong; Ngan,Kenny King Tai; Xu,Zheng, Semiconductor wafer preheating.
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  11. Fairbairn, Kevin; Barzilai, Jessica; Ponnekanti, Hari K.; Taylor, W. N. (Nick), Tandem process chamber.
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  12. Fairbairn, Kevin; Barzilai, Jessica; Ponnekanti, Hari K.; Taylor, W. N. (Nick), Tandem process chamber.
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  13. Kroeker Tony R., Three chamber load lock apparatus.
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  14. Tony R. Kroeker, Three chamber load lock apparatus.
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  15. Klein,Martin P.; Keigler,Arthur; Felsenthal,David, Ultra-thin wafer handling system.
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  16. Minoru Soraoka JP; Ken Yoshioka JP; Yoshinao Kawasaki JP, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  17. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  18. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  19. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  20. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  21. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  22. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  23. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  24. Soraoka, Minoru; Yoshioka, Ken; Kawasaki, Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  25. Soraoka,Minoru; Yoshioka,Ken; Kawasaki,Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  26. Soraoka,Minoru; Yoshioka,Ken; Kawasaki,Yoshinao, Vacuum processing apparatus and semiconductor manufacturing line using the same.
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  27. Bactasa, Romolo Recorba, Wafer handling station including cassette members with lateral wafer confining brackets and associated methods.
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