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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0515695 (1995-08-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 59 인용 특허 : 12 |
An inductively coupled plasma reactor for processing a substrate has an inductively coupled coil antenna including plural inductive antenna loops which are electrically separated from one another and independently connected to separately controllable plasma source RF power supplies. The RF power lev
[ What is claimed is:] [1.] An inductively coupled plasma reactor for processing a substrate in a reactor chamber containing a process gas, comprising:a wafer pedestal;an inductively coupled coil antenna, said coil antenna comprising plural inductive antenna loops adjacent different portions of said
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