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Closed loop process for producing polycrystalline silicon and fumed silica 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-033/02
출원번호 US-0966798 (1997-11-10)
발명자 / 주소
  • DeLuca John P.
출원인 / 주소
  • MEMC Electronic Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Senniger, Powers, Leavitt & Roedel
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 1

초록

A closed loop process for producing electronic grade polycrystalline silicon from silane and fume silica from silicon tetrachloride comprises the steps of:

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A closed loop process for producing electronic grade polycrystalline silicon from silane and fumed silica from silicon tetrachloride comprising the steps of:a) subjecting impure silicon to hydrochlorination with hydrogen chloride to produce trichlorosilane and silicon tet

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Padovani ; Francois A. ; Miller ; Michael Brant ; Moore ; James A. ; Fo wler ; James H. ; June ; Malcolm Neville ; Matthews ; James D. ; Morton ; T. R. ; Stotko ; Norbert A. ; Palmer ; Lewis B., Process of refining impure silicon to produce purified electronic grade silicon.

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Schumacher, John C., Closed-loop silicon production.
  2. Sansegundo-Sanchez, Javier; Benavides-Rel, Xavier; Vales-Canle, Manuel; Tomas-Martinez, Maria, Cooled gas distribution plate, thermal bridge breaking system, and related methods.
  3. Sanchez, Javier San Segundo; Barona, Jose Luis Montesinos; Conejero, Evaristo Ayuso; Canle, Manuel Vicente Vales; Rel, Xavier Benavides; Garcia, Pedro-Tomas Lujan; Martinez, Maria Tomas, Fluidized bed reactor for production of high purity silicon.
  4. Sanchez, Javier San Segundo; Barona, Jose Luis Montesinos; Conejero, Evaristo Ayuso; Canle, Manuel Vicente Vales; Rel, Xavier Benavides; Garcia, Pedro-Tomas Lujan; Martinez, Maria Tomas, Fluidized bed reactor for production of high purity silicon.
  5. Stephen M Lord, Method for improving the efficiency of a silicon purification process.
  6. Bohmhammel, Klaus; Koether, Sven; Roewer, Gerhard; Roever, Ingo; Monkiewicz, Jaroslaw; Hoene, Hans-Juergen, Method for the production of HSiCl3 by catalytic hydrodehalogenation of SiCl4.
  7. Hariharan, Alleppey V.; Ravi, Jagannathan, Method to convert waste silicon to high purity silicon.
  8. Froehlich, Robert; Mixon, David, Methods and system for cooling a reaction effluent gas.
  9. Gupta, Puneet; Erk, Henry F.; Grabbe, Alexis, Methods for producing silane.
  10. Gupta, Puneet; Erk, Henry F.; Grabbe, Alexis, Methods for producing silane.
  11. Gupta, Puneet; Huang, Yue; Bhusarapu, Satish, Production of polycrystalline silicon in substantially closed-loop processes that involve disproportionation operations.
  12. Gupta, Puneet; Huang, Yue; Bhusarapu, Satish, Production of polycrystalline silicon in substantially closed-loop systems that involve disproportionation operations.
  13. Froehlich, Robert; Fieselmann, Ben; Mixon, David; Tsuo, York, Reactor with silicide-coated metal surfaces.
  14. Hariharan, Alleppey V.; Ravi, Jagannathan, Recovery of silicon from kerf silicon waste.
  15. Gupta, Puneet; Erk, Henry F.; Grabbe, Alexis, Systems for producing silane.
  16. Gupta, Puneet; Erk, Henry F.; Grabbe, Alexis, Systems for producing silane.
  17. Gupta, Puneet; Erk, Henry; Grabbe, Alexis, Systems for producing silane.
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