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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0921754 (1997-08-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 102 인용 특허 : 0 |
This invention pertains to surfactant-templated nanometer-scale porosity of a silica precursor solution and forming a mesoporous material by first forming the silica precursor solution into a preform having a high surface area to volume ratio, then rapid drying or evaporating a solvent from the sili
[ We claim:] [1.] A method of making mesoporous silica materials, comprising the steps of(a) combining a silica precursor with an aqueous solvent, an acid and a surfactant having an ammonium cation into a silica precursor solution,(b) templating the silica precursor with the surfactant and obtaining
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