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[미국특허] Megasonic cleaning system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/10
  • B08B-003/12
출원번호 US-0160321 (1998-09-25)
우선권정보 KR-0048825 (1997-09-25)
발명자 / 주소
  • Kim Byeong-Soo,KRX
출원인 / 주소
  • Samsung Electronics Co., Ltd., KRX
대리인 / 주소
    Jones Volentine, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 12

초록 ▼

A megasonic cleaning system includes a transducer on which a substrate to be cleaned is placed. An oscillating electrically energy source is coupled to the transducer for driving the transducer to produce acoustical energy at substantially megasonic frequencies to vibrate the substrate. A blower ass

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A megasonic cleaning system, comprising:a transducer on which a substrate to be cleaned is placed;an oscillating electrical energy source operatively coupled to the transducer for driving the transducer to produce acoustical energy at substantially megasonic frequencies t

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Gockel Thomas R. ; Olson Lorin ; Ryle Lynn ; Whitelaw Brett A., Containment apparatus.
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  2. Bran Mario E. (Garden Grove CA), Megasonic cleaning system.
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  3. Grant Robert (Allentown PA), Megasonic cleaning system.
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  4. Hohmann Eugen (Bensheim DEX) Mund Konrad (Uttenreuth DEX) Weidlich Erhard (Spardorf DEX), Method and apparatus for cleaning, disinfecting and sterilizing medical instruments.
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  5. Prokopenko Alex V. ; Gulay Robert B., Rigid ultrasonic radiation plate assembly systems for ultrasonic cleaning tanks.
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  6. Miller George R. (McHenry IL), Sonic treatment apparatus.
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  7. Menon Venugopal B. (Austin TX), Submicron particle removal using liquid nitrogen.
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  8. Fields John T., System for vibration cleaning of articles including radiators.
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  9. Runnells Robert R. (Kaysville UT), Ultrasonic cleaning device.
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  10. Sakuta Shinichi,JPX ; Mori Genzi,JPX ; Sasakura Toyoki,JPX ; Morimoto Yukio,JPX, Ultrasonic cleaning machine.
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  11. Shibata Hajime (Tokyo JPX), Ultrasonic oscillating device and ultrasonic washing apparatus using the same.
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  12. Shibano Yoshihide (1629-1-12 ; Oyama-cho Machida-shi ; Tokyo JPX), Ultrasonic vibrator device for ultrasonically cleaning workpiece.
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이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Sayka, Anthony; Sardar, Dhiraj K.; Barrera, Frederick J.; Yow, Raylon M., Apparatus and method for cleaning a wafer.
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  2. Korbler, John, Apparatus and method of measuring acoustical energy applied to a substrate.
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  3. Itzkowitz, Herman, Megasonic treatment apparatus.
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  4. Montierth,Garry L.; Miranda,Henry R.; Maraviov,Sharyl L.; Busnaina,Ahmed A., Method and apparatus to process substrates with megasonic energy.
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  5. Beck, Mark Jonathan, Particle removal method and composition.
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  6. Beck, Mark Jonathan, Particle removal method using an aqueous polyphosphate solution.
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  7. Beck, Mark Jonathan, Particle removal method using an aqueous polyphosphate solution.
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  8. Beck, Mark Jonathan, Particle removal method using an aqueous polyphosphate solution.
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