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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0092973 (1998-06-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 50 인용 특허 : 6 |
A fully depleted SOI device includes a semiconductor substrate and a conductive well of a first conductivity type formed in a principal surface of the semiconductor substrate. An insulating layer is formed along the principal surface of the semiconductor substrate and extends across the conductive w
[ What is claimed is:] [1.] An SOI device comprising:a semiconductor substrate;a conductive well of a first conductivity type formed in a principal surface of said semiconductor substrate;an insulating layer formed along said principal surface of said semiconductor substrate and extending across sai
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