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CO.sub.2 cleaning system and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24B-001/00
  • B24C-001/00
출원번호 US-0114569 (1998-07-13)
발명자 / 주소
  • Goenka Lakhi Nandlal
출원인 / 주소
  • Ford Motor Company
대리인 / 주소
    Hodges
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 6

초록

An apparatus is provided for cleaning a workpiece with solid CO.sub.2 particles. A flow channel member includes a flow channel therein having an exhaust nozzle at a distal end thereof. A source of pressurized air is provided in selective fluid communication with the flow channel. A phase separator i

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for cleaning a workpiece with solid CO.sub.2 particles, comprising:a channel member forming a flow channel having an exhaust nozzle at a distal end thereof;a source of pressurized air in selective communication with the flow channel;a phase separator having f

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Layden Lawrence M. (Stanton NJ), Apparatus for removing small particles from a substrate.
  2. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), CO2 cleaning system and method.
  3. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces.
  4. Jon Min-Chung (Princeton Junction NJ) Nicholl Hugh (Berthoud CO) Read Peter Hartpence (Morrisville PA), Method and apparatus for CO2 cleaning with mitigated ESD.
  5. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), Nozzle for enhanced mixing in CO2 cleaning system.
  6. Kneisel Lawrence L. (Novi MI) Baker Jay D. (Dearborn MI) Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), Silicon micromachined CO2 cleaning nozzle and method.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Rajiv S. Agarwala ; Cynthia A. Johnson, Apparatus and method for removing a label from a surface with a chilled medium.
  2. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C.; Thomas, Clint; Parks, John, Apparatus and system for cleaning a substrate.
  3. Chae,Kyung Su; Song,Hyun Ho, Apparatus for inspecting rubbing inferiority of alignment film of liquid crystal display device.
  4. de Larios,John M.; Owczarz,Aleksander; Schoepp,Alan; Redeker,Fritz, Apparatuses and methods for cleaning a substrate.
  5. Freer, Erik M.; deLarios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a semiconductor substrate.
  6. Freer, Erik M.; deLarios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a semiconductor substrate.
  7. de Larios, John M.; Ravkin, Mike; Farber, Jeffrey; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a substrate using non-Newtonian fluids.
  8. de Larios, John M.; Ravkin, Mike; Farber, Jeffrey; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and apparatus for cleaning a substrate using non-newtonian fluids.
  9. Summers, David Archibold; Woelk, Klaus Hubert; Oglesby, Kenneth Doyle; Galecki, Grzegorz, Method and apparatus for jet-assisted drilling or cutting.
  10. Summers, David Archibold; Woelk, Klaus Hubert; Oglesby, Kenneth Doyle; Galecki, Grzegorz, Method and apparatus for jet-assisted drilling or cutting.
  11. Neese Edward D. ; Kullen Peter S. ; Valentine Eugene, Method and apparatus for removing coatings and oxides from substrates.
  12. Zhu, Ji; Mendiratta, Arjun; Mui, David, Method and apparatus for removing contaminants from substrate.
  13. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C.; Thomas, Clint; Parks, John, Method and apparatus for removing contamination from substrate.
  14. de Larios,John M.; Ravkin,Mike; Parks,John; Korolik,Mikhail; Redeker,Fred C., Method and apparatus for transporting a substrate using non-Newtonian fluid.
  15. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fred C., Method and material for cleaning a substrate.
  16. Korolik, Mikhail; Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Mike; Redeker, Fritz, Method and system for using a two-phases substrate cleaning compound.
  17. Korolik, Mikhail; Ravkin, Michael; deLarios, John; Redeker, Fritz C.; Boyd, John M., Method for removing material from semiconductor wafer and apparatus for performing the same.
  18. Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Mike; Redeker, Fritz; de Larios, John M.; Freer, Erik M.; Korolik, Mikhail, Methods for contained chemical surface treatment.
  19. Hiraga, Mikitoshi; Tsunoda, Ryoichi; Inagaki, Kenichiro; Maeda, Kazuyoshi; Suzuki, Yukinori; Shibuya, Norihito, Nozzle, a nozzle unit, and a blasting machine.
  20. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Mikhaylichenko, Katrina; Redeker, Fritz C., Substrate preparation using stabilized fluid solutions and methods for making stable fluid solutions.
  21. Jackson Robert S. ; Boberg Arne B., System and method for CO.sub.2 cleaning of data storage disks.
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